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연합인증

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[한국특허] 기판 처리 장치
Apparatus for processing substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/67
  • F16K-003/02
  • F16K-051/02
출원번호 10-2021-0147336 (2021-10-29)
공개번호 10-2023-0062258 (2023-05-09)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210147336
발명자 / 주소
  • 김진호 / 충청남도 천안시 서북구 불당**로 **, ***동 ****호(불당동, 불당리더힐스)
출원인 / 주소
  • 세메스 주식회사 / 충청남도 천안시 서북구 직산읍 *산단*길 ** ( )
대리인 / 주소
  • 특허법인가산
법적상태 공개

초록

셔터의 처짐 현상을 방지할 수 있는 기판 처리 장치가 제공된다. 상기 기판 처리 장치는 기판이 인입되는 개구부를 포함하는 챔버; 및 상기 개구부를 밀폐하기 위한 셔터 모듈을 포함하되, 상기 셔터 모듈은셔터와, 상기 셔터와 연결되고, 상기 셔터를 전후 방향으로 이동시키는 제1 구동부와, 상기 제1 구동부와 연결되고, 상기 제1 구동부를 상하 방향으로 이동시키는 제2 구동부를 포함한다.

대표청구항

기판이 인입되는 개구부를 포함하는 챔버; 및상기 개구부를 밀폐하기 위한 셔터 모듈을 포함하되,상기 셔터 모듈은셔터와,상기 셔터와 연결되고, 상기 셔터를 전후 방향으로 이동시키는 제1 구동부와,상기 제1 구동부와 연결되고, 상기 제1 구동부를 상하 방향으로 이동시키는 제2 구동부를 포함하는, 기판 처리 장치.

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