초록

안정적으로 높은 파티클 제거율을 얻을 수 있는 초음파 세정 방법 및 초음파 세정 장치를 제공한다.초음파 세정 방법은, 기체가 용존된 액체에 초음파를 조사함으로써 액체 중의 세정 대상물을 세정하기 위한 초음파 세정 방법으로서 이하의 공정을 갖고 있다.기체가 용존된 액체가 준비된다(S10).초음파를 조사하지 않는 경우와 비교하여 기체가 용존된 액체의 굴절률의 공간 변화율이 큰 영역이, 초음파의 진행 방향을 따라 출현하도록 액체에 초음파를 조사하면서 세정 대상물이 세정된다(S40).

대표청구항

기체가 용존된 액체에 초음파를 조사함으로써 상기 액체 중의 세정 대상물(W)을 세정하기 위한 초음파 세정 방법으로서:- 상기 기체가 용존된 상기 액체를 준비하는 공정;- 초음파를 조사하지 않는 경우와 비교하여 상기 기체가 용존된 상기 액체의 굴절률의 공간 변화율이 큰 영역이, 초음파의 진행 방향을 따라 출현하도록 상기 액체에 초음파를 조사하면서 상기 세정 대상물(W)을 세정하는 공정을 포함하는 초음파 세정 방법.

기체가 용존된 액체에 초음파를 조사함으로써 상기 액체 중의 세정 대상물(W)을 세정하기 위한 초음파 세정 방법으로서:- 상기 기체가 용존된 상기 액체를 준비하는 공정;- 초음파를 조사하지 않는 경우와 비교하여 상기 기체가 용존된 상기 액체의 굴절률의 공간 변화율이 큰 영역이, 초음파의 진행 방향을 따라 출현하도록 상기 액체에 초음파를 조사하면서 상기 세정 대상물(W)을 세정하는 공정을 포함하는 초음파 세정 방법.