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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-7002688 (2013-01-31) | |
공개번호 | 10-2014-0004057 (2014-01-10) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2010-187049 (2010-08-24) | |
국제출원번호 | PCT/JP2011/068967 (2011-08-23) | |
국제공개번호 | WO 2012/026463 (2012-03-01) | |
번역문제출일자 | 2013-01-31 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020137002688 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
박막화에 적절한 광학 상수를 갖는 흡수체층을 구비하는 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크의 제공. 기판 상에, EUV 광을 반사하는 반사층과, EUV 광을 흡수하는 흡수체층이 이 순서로 형성된 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크로서, 상기 흡수체층이, 탄탈 (Ta) 과, 팔라듐 (Pd) 을 함유하고, 상기 흡수체층에 있어서, 상기 탄탈 (Ta) 의 함유율이 10 ∼ 80 at% 이고, 상기 팔라듐 (Pd) 의 함유율이 20 ∼ 90 at% 이고, 상기 Ta 및 Pd 의 합계 함유율이 95 ∼ 100 at% 인 것을 특징으
기판 상에, EUV 광을 반사하는 반사층과, EUV 광을 흡수하는 흡수체층이 이 순서로 형성된 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크로서, 상기 흡수체층이, 탄탈 (Ta) 과, 팔라듐 (Pd) 을 함유하고, 상기 흡수체층에 있어서, 상기 탄탈 (Ta) 의 함유율이 10 ∼ 80 at% 이고, 상기 팔라듐 (Pd) 의 함유율이 20 ∼ 90 at% 이고, 상기 Ta 및 Pd 의 합계 함유율이 95 ∼ 100 at% 인 것을 특징으로 하는 EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크.
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