초록 ▼

본 발명은 기판 열처리 시스템의 가스 냉각장치에 관한 것으로서, 하나 이상의 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 제공하는 챔버와, 이 챔버의 내부에 수납되는 기판의 중앙부위에 설치되어 가스가 공급되는 가스 공급부와, 챔버의 하부에 설치되되 기판의 외곽부위에 설치되어 가스가 배출되는 가스 배출부와, 이 가스 배출부의 하류에 설치되어 배출되는 가스를 냉각시키는 가스 냉각부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 가스 배출부의 둘레에 가스 냉각부를 설치하여 배출 가스의 온도를 하강시킴으로써, 고온의 배출 가스로 인하여

본 발명은 기판 열처리 시스템의 가스 냉각장치에 관한 것으로서, 하나 이상의 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 제공하는 챔버와, 이 챔버의 내부에 수납되는 기판의 중앙부위에 설치되어 가스가 공급되는 가스 공급부와, 챔버의 하부에 설치되되 기판의 외곽부위에 설치되어 가스가 배출되는 가스 배출부와, 이 가스 배출부의 하류에 설치되어 배출되는 가스를 냉각시키는 가스 냉각부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 가스 배출부의 둘레에 가스 냉각부를 설치하여 배출 가스의 온도를 하강시킴으로써, 고온의 배출 가스로 인하여 배기관의 부식 및 외부 발열로 인한 안전사고를 방지하고 열처리 시스템의 열화를 방지할 수 있는 효과를 제공한다.

대표청구항

하나 이상의 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 제공하는 챔버(100);상기 챔버(100)의 내부에 수납되는 기판의 중앙부위에 설치되어 가스가 공급되는 가스 공급부(200) 및상기 챔버(100)의 하부에 설치되되 기판의 외곽부위에 설치되어 가스가 배출되는 가스 배출부(300); 및상기 가스 배출부(300)의 하류에 설치되어 배출되는 가스를 냉각시키는 가스 냉각부(400);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 시스템의 가스 냉각장치.

하나 이상의 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 제공하는 챔버(100);상기 챔버(100)의 내부에 수납되는 기판의 중앙부위에 설치되어 가스가 공급되는 가스 공급부(200) 및상기 챔버(100)의 하부에 설치되되 기판의 외곽부위에 설치되어 가스가 배출되는 가스 배출부(300); 및상기 가스 배출부(300)의 하류에 설치되어 배출되는 가스를 냉각시키는 가스 냉각부(400);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 시스템의 가스 냉각장치.