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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0070256 (2014-06-10) | |
공개번호 | 10-2015-0142133 (2015-12-22) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140070256 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 기판 열처리 시스템의 가스 냉각장치에 관한 것으로서, 하나 이상의 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 제공하는 챔버와, 이 챔버의 내부에 수납되는 기판의 중앙부위에 설치되어 가스가 공급되는 가스 공급부와, 챔버의 하부에 설치되되 기판의 외곽부위에 설치되어 가스가 배출되는 가스 배출부와, 이 가스 배출부의 하류에 설치되어 배출되는 가스를 냉각시키는 가스 냉각부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 가스 배출부의 둘레에 가스 냉각부를 설치하여 배출 가스의 온도를 하강시킴으로써, 고온의 배출 가스로 인하여
하나 이상의 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 제공하는 챔버(100);상기 챔버(100)의 내부에 수납되는 기판의 중앙부위에 설치되어 가스가 공급되는 가스 공급부(200) 및상기 챔버(100)의 하부에 설치되되 기판의 외곽부위에 설치되어 가스가 배출되는 가스 배출부(300); 및상기 가스 배출부(300)의 하류에 설치되어 배출되는 가스를 냉각시키는 가스 냉각부(400);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 시스템의 가스 냉각장치.
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