초록 ▼

본 발명은 불소 화합물을 사용하지 않는 식각 조성물, 이를 이용한 식각방법 및 전자 소자에 관한 것으로, 본 발명의 식각 조성물은 식각 균일성이 우수하고, 잔사를 발생시키지 않아, 쇼트 및 배선의 불량의 문제가 없고, 소스/드레인 배선을 일괄 식각할 수 있으면서 처리매수도 많은 효과가 있다. 이를 통하여 식각 공정의 단순화 및 효율화가 가능하고, 특히 불소화합물을 포함하지 않아 유리기판의 식각이 발생하지 않아 유리기판의 재사용이 가능하며, IGZO 손상을 일으키지 않는 우수한 식각 효과가 있어 전자소자의 제조 빛 식각 공정에 효과적

본 발명은 불소 화합물을 사용하지 않는 식각 조성물, 이를 이용한 식각방법 및 전자 소자에 관한 것으로, 본 발명의 식각 조성물은 식각 균일성이 우수하고, 잔사를 발생시키지 않아, 쇼트 및 배선의 불량의 문제가 없고, 소스/드레인 배선을 일괄 식각할 수 있으면서 처리매수도 많은 효과가 있다. 이를 통하여 식각 공정의 단순화 및 효율화가 가능하고, 특히 불소화합물을 포함하지 않아 유리기판의 식각이 발생하지 않아 유리기판의 재사용이 가능하며, IGZO 손상을 일으키지 않는 우수한 식각 효과가 있어 전자소자의 제조 빛 식각 공정에 효과적으로 사용될 수 있다.

대표청구항 ▼

조성물 전체 중량에 대하여, 과산화수소(H2O2) 11 내지 15 중량%, 피로인산나트륨(Sodium Pyrophosphate) 2 내지 4 중량%, 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(Tetramethyl ammonium hydroxide, TMAH) 2 내지 3 중량%, 이미노디아세트산(Iminodiacetic Acid, IDA) 2 내지 9 중량%, 아졸 화합물 0.2 내지 0.5 중량%, 보조 킬레이트화제 1 내지 5 중량%, 및 잔량의 용매를 포함하고,상기 용매는 물, 알코올, 글리콜 에테르, 에테르, 에스테르, 케톤, 카보네

조성물 전체 중량에 대하여, 과산화수소(H2O2) 11 내지 15 중량%, 피로인산나트륨(Sodium Pyrophosphate) 2 내지 4 중량%, 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(Tetramethyl ammonium hydroxide, TMAH) 2 내지 3 중량%, 이미노디아세트산(Iminodiacetic Acid, IDA) 2 내지 9 중량%, 아졸 화합물 0.2 내지 0.5 중량%, 보조 킬레이트화제 1 내지 5 중량%, 및 잔량의 용매를 포함하고,상기 용매는 물, 알코올, 글리콜 에테르, 에테르, 에스테르, 케톤, 카보네이트, 아미드 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고,pH가 4 내지 7이며,구리계 금속막 또는 구리계 금속막과 몰리브덴계 금속막의 다층막용인,식각 조성물.