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[한국특허] 극자외선용 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/033
  • H01L-021/027
출원번호 10-2015-0038688 (2015-03-20)
공개번호 10-2016-0002332 (2016-01-07)
우선권정보 대한민국(KR) 1020140080676 (2014-06-30)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150038688
발명자 / 주소
  • 남기수 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
  • 신철 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
  • 양철규 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
  • 이종화 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
  • 최민기 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
  • 김창준 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
  • 장규진 / 대구광역시 달서구 호산동로 **
출원인 / 주소
  • 주식회사 에스앤에스텍 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
대리인 / 주소
  • 박천수
심사청구여부 있음 (2015-03-20)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 흡수막을 구성하고 있는 흡수층 및 반사방지층을 동일 식각 물질에 의해 식각되는 물질로 구성함으로써, 단 1회의 식각 공정 만으로 흡수층 및 반사방지층의 동시 식각이 가능하여 공정 중의 결함 및 이물질의 발생을 최소화 할 수 있는 극자외선용 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크를 제조할 수 있다.또한, 본 발명은 흡수막을 구성하는 경원소의 조성비를 조절하여 요구되는 흡수막의 광학 특성을 확보함과 동시에 박막화를 구현하여 14㎚급 이하, 특히, 7㎚급 이하의 패턴 구현 시 우수한 패턴 정확도를 갖는 극자외선용 블랭크 마스

대표청구항

투명 기판 상에 적어도 다층 반사막 및 흡수막이 구비된 극자외선용 블랭크 마스크에 있어서,상기 흡수막은 적어도 2층 이상의 다층막으로 이루어지고, 상기 각 층들은 1회의 식각 공정으로 식각 가능하도록 동일한 식각 가스에 의해 식각 가능한 물질로 이루어진 극자외선용 블랭크 마스크.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 극자외선 반사형 블랭크 마스크와 포토마스크 및 그제조방법 | 남기수, 차한선, 강형종
  2. [한국] 극자외선용 블랭크 마스크 및 이를 이용하여 제조되는 포토마스크 | 남기수, 차한선, 양신주, 양철규
  3. [일본] METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK | KUREISHI MITSUHIRO, SHIYOUKI TSUTOMU
  4. [한국] EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크 | 하야시 가즈유키, 마에시게 가즈노부, 우노 도시유키

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 극자외선 리소그래피용 블랭크마스크 및 포토마스크 | 신철, 이종화, 양철규, 공길우, 서경원
  2. [한국] 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반사형 마스크 블랭크의 제조 방법 | 다나베 히로요시
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