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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0038688 (2015-03-20) | |
공개번호 | 10-2016-0002332 (2016-01-07) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020140080676 (2014-06-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150038688 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-03-20) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 흡수막을 구성하고 있는 흡수층 및 반사방지층을 동일 식각 물질에 의해 식각되는 물질로 구성함으로써, 단 1회의 식각 공정 만으로 흡수층 및 반사방지층의 동시 식각이 가능하여 공정 중의 결함 및 이물질의 발생을 최소화 할 수 있는 극자외선용 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크를 제조할 수 있다.또한, 본 발명은 흡수막을 구성하는 경원소의 조성비를 조절하여 요구되는 흡수막의 광학 특성을 확보함과 동시에 박막화를 구현하여 14㎚급 이하, 특히, 7㎚급 이하의 패턴 구현 시 우수한 패턴 정확도를 갖는 극자외선용 블랭크 마스
투명 기판 상에 적어도 다층 반사막 및 흡수막이 구비된 극자외선용 블랭크 마스크에 있어서,상기 흡수막은 적어도 2층 이상의 다층막으로 이루어지고, 상기 각 층들은 1회의 식각 공정으로 식각 가능하도록 동일한 식각 가스에 의해 식각 가능한 물질로 이루어진 극자외선용 블랭크 마스크.
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