[특허]실리콘 질화막 식각 용액

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실리콘 질화막 식각 용액 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C09K-013/04 C09K-013/06 H01L-021/306
출원번호	10-2015-0091005 (2015-06-26)
공개번호	10-2017-0001850 (2017-01-05)
등록번호	10-1733289-0000 (2017-04-27)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020150091005
발명자 / 주소	한승현 / 경기도 성남시 중원구 사기막골로번길 OCI중앙연구소 (상대원동) 장욱 / 경기도 성남시 중원구 사기막골로번길 OCI중앙연구소 (상대원동) 권유미 / 경기도 성남시 중원구 사기막골로번길 OCI중앙연구소 (상대원동)
출원인 / 주소	오씨아이 주식회사 / 서울특별시 중구 소공로 ** (소공동)
대리인 / 주소	특허법인 대아
심사청구여부	있음 (2015-12-24)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 실리콘 질화막 식각 용액에 관한 것이며, 보다 상세하게는 반도체 제조 공정에서 습식 식각하는 경우 실리콘 산화막에 비해 실리콘 질화막에 대한 식각 선택비가 높은 식각 용액에 관한 것이다.

대표청구항

인산;하기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 첨가제; 및잔량의 물;을 포함하는, 실리콘 질화막 식각 용액:[화학식 1]여기서, R1 내지 R3는 서로 독립적으로, C1-C10 알킬 또는 C1-C10 알콕시이며,R4는 하기 화학식 3으로 표시되는 알킬 포스포네이트며,[화학식 3]여기서, R5는 서로 독립적으로, 수소, 히드록시, C1-C5 알킬, C1-C5 알콕시 및 C1-C5 할로알킬로부터 선택되고,상기 n은 1 내지 10의 정수이고,R7 및 R8은 서로 독립적으로, C1-C5 알킬이다.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 식각 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법 | 조성혁, 홍권, 박형순, 김규현, 한지혜, 임정훈, 이진욱, 박재완, 정찬근
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[일본] METHOD FOR REMOVING SiN FILM | KAMISHIRO YASUSHI, NAKAKO TAKEO, NODO TAKAAKI, INADA MAKI, KURODA KYOKO
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이 특허를 인용한 특허 (2)

[한국] 실리콘질화막 식각액 조성물 | 박성환
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[한국] 절연막 식각액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 | 김정환, 양윤석, 최경묵, 권기진, 김상태, 최한영
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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