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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0091005 (2015-06-26) | |
공개번호 | 10-2017-0001850 (2017-01-05) | |
등록번호 | 10-1733289-0000 (2017-04-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150091005 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-12-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 실리콘 질화막 식각 용액에 관한 것이며, 보다 상세하게는 반도체 제조 공정에서 습식 식각하는 경우 실리콘 산화막에 비해 실리콘 질화막에 대한 식각 선택비가 높은 식각 용액에 관한 것이다.
인산;하기 화학식 1로 표시되는 실리콘계 첨가제; 및잔량의 물;을 포함하는, 실리콘 질화막 식각 용액:[화학식 1]여기서, R1 내지 R3는 서로 독립적으로, C1-C10 알킬 또는 C1-C10 알콕시이며,R4는 하기 화학식 3으로 표시되는 알킬 포스포네이트며,[화학식 3]여기서, R5는 서로 독립적으로, 수소, 히드록시, C1-C5 알킬, C1-C5 알콕시 및 C1-C5 할로알킬로부터 선택되고,상기 n은 1 내지 10의 정수이고,R7 및 R8은 서로 독립적으로, C1-C5 알킬이다.
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