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IMD 필름을 이용한 사출 성형 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B29C-045/14
  • B32B-015/08
출원번호 10-2015-0107400 (2015-07-29)
공개번호 10-2017-0015625 (2017-02-09)
등록번호 10-1816298-0000 (2018-01-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150107400
발명자 / 주소
  • 윤홍승 / 경기도 고양시 일산동구 숲속마을*로 **-**, ***동 ****호(일산동구, 숲속마을*단지아파트)
  • 진봉재 / 경상남도 함안군 칠서면 이룡리 ***번지
  • 김윤하 / 서울특별시 강서구 금낭화로**길 *, ***동 ***호 (방화동, 방화*단지동성아파트)
출원인 / 주소
  • 주식회사 나노기술 / 충청북도 충주시 대소원면 기업도시*로 ***-**
대리인 / 주소
  • 천성훈
심사청구여부 있음 (2015-07-29)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록 ▼

베이스 이형 필름(base release film), 및 베이스 이형 필름에 적층되고, 졸(sol) 또는 겔(gel) 상태이의 무기재료 코팅층(coating layer), 및 무기재료 코팅층에 적층된 인쇄층을 구비한 IMD 필름을 이용한 사출 성형 방법이 개시된다. 개시된 사출 성형 방법은, IMD 필름의 일 부분을 사출 지점으로 특정하고, 사출 지점의 무기재료 코팅층을 경화시키는 사출 지점 경화 단계, 사출 성형 금형의 캐비티(cavity)를 한정하는 면에 베이스 이형 필름이 접촉 대면(對面)하도록, IMD 필름을 사출 성형 금형

대표청구항 ▼

베이스 이형 필름(base release film), 및 상기 베이스 이형 필름에 적층되고, 실록산계 수지 또는 실란계 수지를 가지며 졸(sol) 또는 겔(gel) 상태의 무기재료 코팅층(coating layer), 및 상기 무기재료 코팅층에 적층된 인쇄층을 구비한 IMD 필름(in mold decoration film)을 준비하는 IMD 필름 준비 단계; 상기 IMD 필름의 일 부분을 사출 지점으로 특정하고, 상기 사출 지점의 무기재료 코팅층을 경화시킴과 동시에, 상기 사출 지점 외의 무기재료 코팅층은 졸 또는 겔 상태가 유지되도

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