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연합인증

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이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

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포토레지스트 박리액 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-007/42
  • H01L-021/311
출원번호 10-2015-0139500 (2015-10-05)
공개번호 10-2017-0040477 (2017-04-13)
등록번호 10-2398755-0000 (2022-05-12)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150139500
발명자 / 주소
  • 김민희 / 충청남도 태안군 태안읍 원이로 *-**
  • 임찬규 / 서울특별시 강남구 삼성로**길 **-* (대치동), ***
  • 강찬구 / 대전광역시 중구 태평로 ** (태평동, 삼부아파트*단지) ***동 ***호
  • 이상대 / 경기도 화성시 동탄반석로 ** (반송동) ***동 ****호
출원인 / 주소
  • 주식회사 이엔에프테크놀로지 / 경기도 용인시 기흥구 탑실로**번길 ** (공세동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 플러스
심사청구여부 있음 (2020-06-01)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 높은 환원력을 가지는 특정 화합물에 의해 변성된 포토레지스트의 제거 속도를 향상시키고 기판 상에 잔류하는 포토레지스트 없도록 높은 박리력을 가지는 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다.

대표청구항

N-이소프로필 히드록실아민 또는 N-이소부틸 히드록실아민 중에서 선택되는 1종 또는 2종인 아민; 알코올 화합물; 비양자성 극성 용매; 및 알칸올 아민 화합물;을 포함하는 포토레지스트 박리액 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] REMOVING SOLUTION COMPOSITION FOR RESIST | TANABE MASAHITO, WAKIYA KAZUMASA, KOBAYASHI MASAICHI, NAKAYAMA TOSHIMASA
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