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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0098517 (2015-07-10) | |
공개번호 | 10-2017-0006988 (2017-01-18) | |
등록번호 | 10-1700631-0000 (2017-01-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150098517 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-07-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로서, 구리에 대한 부식 억제 성능을 가지고 있으며, 배선 저항을 증가시키는 구리산화막과 포토레지스트를 동시에 제거하기 위하여, 아민류, 암모늄수산화물, 극성용제 및 첨가제를 포함하는 포토레지스트 박리액 조성물을 제공한다. 그리고, 배선 저항을 증가시키는 산화막을 제거함으로써 별도의 구리산화막 제거공정이 필요 없으므로 공정 효율이 향상될 수 있고, 인체에 보다 안전한 포토레지스트 박리액 조성물을 제공한다.
아민, 수산화알킬암모늄 및 첨가제를 포함하는 포토레지스트 박리액 조성물로서,상기 아민은 2차 아민 또는 3차 아민이며,상기 첨가제는 글리콜산, 글리코닉산, 글리옥실산 또는 솔비톨을 포함하며,상기 아민과 첨가제는 하기 조합 중 하나의 조합으로 포함되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리액 조성물:a) 전체 조성물 대비 1중량%의 2차 아민과, 전체 조성물 대비 3중량%의 글리콜산 또는 5중량%의 글리코닉산의 조합;b) 전체 조성물 대비 1-3중량%의 3차 아민과, 전체 조성물 대비 0.1-5중량%(단, 0.1중량%와 5중량%는 제외
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