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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0158816 (2015-11-12) | |
공개번호 | 10-2016-0063242 (2016-06-03) | |
등록번호 | 10-1839461-0000 (2018-03-12) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020140166780 (2014-11-26) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150158816 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-11-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
마이크로 렌즈 어레이 제조 방법이 개시된다.이 방법에서는, 먼저, 기판 상에 포토레지스트를 도포하여 포토레지스트층을 형성한다.그 후, 마스크를 사용하여 상기 포토레지스트층의 일부를 노광하고, 상기 포토레지스트층의 상부에 박막을 형성한다.계속해서, 상기 박막이 형성된 포토레지스트층을 현상하는 동시에 초음파 진동을 가하여 상기 박막이 융기하도록 한 후, 융기한 상기 박막에 전면 노광을 수행하여 마이크로 렌즈 어레이를 형성한다.
기판 상에 포토레지스트를 도포하여 포토레지스트층을 형성하는 단계;마스크를 사용하여 상기 포토레지스트층의 일부를 노광하는 단계;상기 포토레지스트층의 상부에 박막을 형성하는 단계; 상기 박막이 형성된 포토레지스트층을 현상하는 동시에 초음파 진동을 가하여 상기 박막이 융기하도록 하는 단계; 및융기한 상기 박막에 전면 노광을 수행하는 단계를 포함하고,상기 박막이 융기하도록 하는 단계에서, 상기 박막이 형성된 포토레지스트층이 형성된 기판이 현상액에 담궈져서 상기 초음파 진동에 의해 상기 포토레지스트와 상기 현상액의 혼합물이 상기 박막 내에서
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