최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2015-0164040 (2015-11-23) | |
등록번호 | 10-1692644-0000 (2016-12-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150164040 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2015-11-23) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 장비에 슬러리를 공급하는 장치 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 슬러리 원액, 과산화수소수(H2O2) 및 초순수(deionized water)를 혼합하여 요구되는 농도의 슬러리를 생성하는 슬러리 혼합부; 생성된 슬러리를 저장하는 슬러리 저장부; 및 상기 슬러리 저장부에 저장된 슬러리를 인출하여 상기 CMP 장비에 공급하거나, 인출한 상기 슬러리를 상기 슬러리 저장부에 주입하는 순환 공급부를 포함하는 슬러리 공급 장치 및 그 제어 방법을 제공한다.
CMP(Chemical Mechanical Polishing) 장비에 슬러리를 공급하는 장치에 있어서,슬러리 원액, 과산화수소(H2O2) 및 초순수(deionized water)를 혼합하여 요구되는 농도의 슬러리를 생성하는 슬러리 혼합부;생성된 슬러리를 저장하는 슬러리 저장부; 및상기 슬러리 저장부에 저장된 슬러리를 인출하여 상기 CMP 장비에 공급하고, 인출된 상기 슬러리를 상기 슬러리 저장부에 주입하는 순환 공급부를 포함하되,상기 슬러리 저장부는,제1 공급 탱크 및 제2 공급 탱크를 포함하고,상기 순환 공급부는,상기 제1 공급
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.