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연합인증

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고 종횡비 및 대 횡측 치수 구조물들을 위한 계측 시스템 및 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G01N-021/47
  • G01B-011/24
  • G01N-021/95
  • H01L-021/66
출원번호 10-2015-7013440 (2015-05-21)
공개번호 10-2015-0070399 (2015-06-24)
등록번호 10-1982379-0000 (2019-05-20)
우선권정보 미국(US) 61/718,184 (2012-10-24);미국(US) 13/743,304 (2013-01-16)
국제출원번호 PCT/US2013/066677 (2013-10-24)
국제공개번호 WO 2014/066679 (2014-05-01)
번역문제출일자 2015-05-21
DOI http://doi.org/10.8080/1020157013440
발명자 / 주소
  • 지우라 새디어스 제라드 / 미국 캘리포니아주 ***** 산 호세 투니스 애비뉴 ****
  • 리우 쉐펑 / 미국 캘리포니아주 ***** 산 호세 프라우티 와이 ****
  • 왕 데이빗 와이 / 미국 캘리포니아주 ***** 산타 클라라 앨리스 드라이브 ****
  • 마센 존 / 미국 캘리포니아주 ***** 로스 알토스 모라 드라이브 *****
  • 쿠즈네초프 알랙산더 / 미국 캘리포니아주 ***** 마운틴 뷰 아파트먼트 ** 워커 드라이브 ***
  • 드 비어 요한네스 디 / 미국 캘리포니아주 ***** 멘로 파크 오코너 스트리트 ***
  • 크리쉬난 샨카르 / 미국 캘리포니아주 ***** 산타 클라라 감멜 브라운 플레이스 ****
  • 쇼네시 데릭 / 미국 캘리포니아주 ***** 산 호세 가보타 애비뉴 ****
  • 스체그로프 안드레이 / 미국 캘리포니아주 ***** 캠벨 몬테주마 드라이브 ****
출원인 / 주소
  • 케이엘에이-텐코 코포레이션 / 미합중국, 캘리포니아 *****, 밀피타스, 원 테크놀로지 드라이브
대리인 / 주소
  • 김태홍; 김진회
심사청구여부 있음 (2018-10-19)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

다양한 고 종횡비 및 대 횡측 치수 구조물들을 위한 계측 시스템 및 방법이 제공된다.하나의 방법은 웨이퍼 상에 형성된 하나 이상의 구조물들에 광을 조사하는 단계를 포함한다.광은 자외선 광, 가시 광, 및 적외선 광을 포함한다.하나 이상의 구조물들은 적어도 하나의 고 종횡비 구조물 또는 하나 이상의 대 측면 치수 구조물을 포함한다.본 방법은 또한 하나 이상의 구조물들에 조사된 광에 기인하여 하나 이상의 구조물들로부터의 광에 응답한 출력을 생성하는 단계를 포함한다.또한, 본 방법은 출력을 이용하여 하나 이상의 구조물들의 하나 이상의 특

대표청구항

웨이퍼 상에 형성된 하나 이상의 구조물의 하나 이상의 특성(characteristic)을 결정하도록 구성된 시스템에 있어서,상기 웨이퍼 상에 형성된 하나 이상의 구조물에 광을 지향시키도록 구성된 조명 서브시스템 - 상기 광은 자외선 광, 가시 광, 및 적외선 광을 포함하고, 상기 하나 이상의 구조물은 적어도 하나의 고 종횡비(high aspect ratio) 구조물 또는 적어도 하나의 대 횡측 치수(large lateral dimension) 구조물을 포함함 -;상기 하나 이상의 구조물에 지향된 상기 광에 기인하여 상기 하나 이상의

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