초록 ▼

본 발명에 따른 통합 공정 씬너 조성물은, 반도체 소자 및 박막트렌지스터 액정표시소자 제조공정에 사용되는 감광성 수지 제거, 컬러필터 공정에 사용되는 컬러 감광성 수지 제거 및 OLED 공정에 사용되는 감광성 수지 제거의 통합공정용 씬너 조성물에 관한 것으로, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 80 내지 97 중량 %; 케톤류(Ketone) 1 내지 10 중량 %; 및 에틸-3-에톡시프로피오네이트(EEP) 1 내지 10 중량 %를 포함하여 이루어지는 것이다. 또한, 본 발명에 따른 통합 공정 씬너 조성물은 프로필렌글리콜모노메틸에

본 발명에 따른 통합 공정 씬너 조성물은, 반도체 소자 및 박막트렌지스터 액정표시소자 제조공정에 사용되는 감광성 수지 제거, 컬러필터 공정에 사용되는 컬러 감광성 수지 제거 및 OLED 공정에 사용되는 감광성 수지 제거의 통합공정용 씬너 조성물에 관한 것으로, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 80 내지 97 중량 %; 케톤류(Ketone) 1 내지 10 중량 %; 및 에틸-3-에톡시프로피오네이트(EEP) 1 내지 10 중량 %를 포함하여 이루어지는 것이다. 또한, 본 발명에 따른 통합 공정 씬너 조성물은 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 80 내지 97 중량 %; 케톤류(Ketone) 1 내지 10 중량 %; 에틸-3-에톡시프로피오네이트(EEP) 1 내지 10 중량 % 및, 노말부틸 아세테이트 (n-BA) 1 내지 5중량% 더 포함하여 이루어진다. 본 발명에 따른 씬너 조성물은 종래의 씬너 조성물에 비해 다양한 공정의 감광제를 제거하는데 사용할 수 있으며, 효과적으로 세정 가능하며, 오염원이 되는 백화현상이 일어나지 않은 이점이 있다. 또한, 씬너 재생 시에 발생하는 미량의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 효과적으로 제거 할 수 있다.

대표청구항

프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 (PGME) 80 내지 97 중량 %;아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸메틸케톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 케톤류 1 내지 10 중량 %; 및에틸-3-에톡시 프로피오네이트(EEP) 1내지 5 중량 %; 를 포함하여 이루어지고, TFT-LCD, 컬러필터, OLED 공정의 포토레지스트 및 컬러레지스트 분사용 노즐 세정에 통합하여 사용되는 통합 공정 씬너 조성물.

프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 (PGME) 80 내지 97 중량 %;아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸메틸케톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 케톤류 1 내지 10 중량 %; 및에틸-3-에톡시 프로피오네이트(EEP) 1내지 5 중량 %; 를 포함하여 이루어지고, TFT-LCD, 컬러필터, OLED 공정의 포토레지스트 및 컬러레지스트 분사용 노즐 세정에 통합하여 사용되는 통합 공정 씬너 조성물.