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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0028670 (2016-03-10) | |
공개번호 | 10-2017-0105728 (2017-09-20) | |
등록번호 | 10-2085677-0000 (2020-03-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160028670 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-03-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(취소환송후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명에 따른 통합 공정 씬너 조성물은, 반도체 소자 및 박막트렌지스터 액정표시소자 제조공정에 사용되는 감광성 수지 제거, 컬러필터 공정에 사용되는 컬러 감광성 수지 제거 및 OLED 공정에 사용되는 감광성 수지 제거의 통합공정용 씬너 조성물에 관한 것으로, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 80 내지 97 중량 %; 케톤류(Ketone) 1 내지 10 중량 %; 및 에틸-3-에톡시프로피오네이트(EEP) 1 내지 10 중량 %를 포함하여 이루어지는 것이다. 또한, 본 발명에 따른 통합 공정 씬너 조성물은 프로필렌글리콜모노메틸에
프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 (PGME) 80 내지 97 중량 %;아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸메틸케톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 케톤류 1 내지 10 중량 %; 및에틸-3-에톡시 프로피오네이트(EEP) 1내지 5 중량 %; 를 포함하여 이루어지고, TFT-LCD, 컬러필터, OLED 공정의 포토레지스트 및 컬러레지스트 분사용 노즐 세정에 통합하여 사용되는 통합 공정 씬너 조성물.
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