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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0093548 (2016-07-22) | |
공개번호 | 10-2018-0011428 (2018-02-01) | |
등록번호 | 10-2570269-0000 (2023-08-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160093548 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-05-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 일 실시예는, 기판의 세정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버와, 상기 챔버 내부에 배치되며 상기 기판을 지지하는 기판 지지부와, 상기 챔버 내부에 배치되며 플라즈마 가스를 생성하는 플라즈마 생성부와, 상기 기판 지지부 상에 배치될 상기 기판을 가열하는 히터부와, 산화물을 에칭하기 위한 가스를 상기 챔버 내부에 공급하는 세정 가스 공급부와, 수소 가스를 상기 챔버 내부에 공급하는 수소 가스 공급부를 포함하는 전세정 장치를 제공한다.
기판의 세정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 내부에 배치되며 상기 기판을 지지하는 기판 지지부;상기 챔버 내부에 배치되며 플라즈마 가스를 생성하는 플라즈마 생성부;상기 기판 지지부 상에 배치될 상기 기판을 가열하는 히터부;산화물을 에칭하기 위한 가스를 상기 챔버 내부에 공급하는 세정 가스 공급부;수소 가스를 상기 챔버 내부에 공급하는 수소 가스 공급부; 및실리콘 또는 실리콘 화합물을 에칭하기 위한 할로겐 가스를 상기 챔버 내부에 공급하는 할로겐 가스 공급부;를 포함하고,상기 세정 가스 공급부는, 불소계 가스를 공급하
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