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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0138587 (2016-10-24) | |
공개번호 | 10-2018-0045104 (2018-05-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160138587 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 원자층 식각 방법을 제공하되, 이 방법은, 두 종류 이상의 원자들을 포함하는 막을 원자층 단위로 식각할 때 각 종류의 원자들을 식각하기 적합한 식각 가스들을 순차적으로 공급하여 각 종류의 원자들을 순차적으로 제거한다.
각각 서로 다른 제 1 원자들과 제 2 원자들이 존재하는 원자층들을 포함하는 막을 제공하고; 그리고각각의 원자층을 순차적으로 제거하는 것을 포함하되,각각의 원자층을 제거하는 것은:상기 제 1 원자들과 반응하는 제 1 식각 가스를 공급하여 상기 제 1 원자들에 흡착시키는 단계;상기 제 1 원자들에 흡착되지 않은 상기 제 1 식각 가스를 퍼지(purge)하는 단계;상기 제 1 식각 가스가 흡착된 상기 제 1 원자들을 제거하는 단계;상기 제 2 원자들과 반응하는 제 2 식각 가스를 공급하여 상기 제 2 원자들에 흡착시키는 단계;상기 제
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