초록 ▼

본 발명은 로드락챔버 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 대기압 상태의 외부와 공정압 상태의 공정챔버 사이에서 기판을 전달하는 로드락챔버 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것이다.본 발명은, 대기압상태의 외부 및 미리 설정된 공정압상태의 공정챔버(10) 사이에서 기판(S)을 전달하는 로드락챔버(30)로서, 밀폐된 내부공간을 형성하며, 기판도입 또는 기판배출을 위해 개폐되는 한 쌍의 게이트(311, 312)들이 대향하는 한 쌍의 측면부에 형성되는 챔버본체(310)와; 상기 챔버본체(310)에 설치되어

본 발명은 로드락챔버 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 대기압 상태의 외부와 공정압 상태의 공정챔버 사이에서 기판을 전달하는 로드락챔버 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것이다.본 발명은, 대기압상태의 외부 및 미리 설정된 공정압상태의 공정챔버(10) 사이에서 기판(S)을 전달하는 로드락챔버(30)로서, 밀폐된 내부공간을 형성하며, 기판도입 또는 기판배출을 위해 개폐되는 한 쌍의 게이트(311, 312)들이 대향하는 한 쌍의 측면부에 형성되는 챔버본체(310)와; 상기 챔버본체(310)에 설치되어 상기 내부공간에 위치된 기판(S)을 지지하는 기판지지부(320)와; 상기 챔버본체(310)에 설치되어 상기 내부공간을 상기 공정압상태에서 대기압상태로 변화시면서 기판(S)을 냉각시키기 위하여 상기 내부공간에 가스를 주입하며, 길이방향이 상기 기판(S)의 반송방향과 평행하게 배치되는 하나 이상의 가스주입부(330)와; 상기 가스주입부(330)에서 분사된 가스를 상기 내부공간에 확산시키기 위한 가스확산수단과; 상기 챔버본체(100)에 설치되어 상기 내부공간의 가스를 배기하는 가스배기부를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락챔버(30)를 개시한다.

대표청구항 ▼

대기압상태의 외부 및 미리 설정된 공정압상태의 공정챔버(10) 사이에서 기판(S)을 전달하는 로드락챔버(30)로서,밀폐된 내부공간을 형성하며, 기판도입 또는 기판배출을 위해 개폐되는 한 쌍의 게이트(311, 312)들이 대향하는 한 쌍의 측면부에 형성되는 챔버본체(310)와;상기 챔버본체(310)에 설치되어 상기 내부공간에 위치된 기판(S)을 지지하는 기판지지부(320)와;상기 챔버본체(310)에 설치되어 상기 내부공간을 상기 공정압상태에서 대기압상태로 변화시면서 기판(S)을 냉각시키기 위하여 상기 내부공간에 가스를 주입하며, 길이

대기압상태의 외부 및 미리 설정된 공정압상태의 공정챔버(10) 사이에서 기판(S)을 전달하는 로드락챔버(30)로서,밀폐된 내부공간을 형성하며, 기판도입 또는 기판배출을 위해 개폐되는 한 쌍의 게이트(311, 312)들이 대향하는 한 쌍의 측면부에 형성되는 챔버본체(310)와;상기 챔버본체(310)에 설치되어 상기 내부공간에 위치된 기판(S)을 지지하는 기판지지부(320)와;상기 챔버본체(310)에 설치되어 상기 내부공간을 상기 공정압상태에서 대기압상태로 변화시면서 기판(S)을 냉각시키기 위하여 상기 내부공간에 가스를 주입하며, 길이방향이 상기 기판(S)의 반송방향과 평행하게 배치되는 하나 이상의 가스주입부(330)와;상기 가스주입부(330)에서 분사된 가스를 상기 내부공간에 확산시키기 위한 가스확산수단과;상기 챔버본체(100)에 설치되어 상기 내부공간의 가스를 배기하는 가스배기부를 포함하며,상기 가스주입부(330)는,상기 챔버본체(310)의 측면부들 중 상기 게이트(311, 312)가 형성되지 않은 측면부에 설치되며,상기 가스확산수단은, 상기 챔버본체(310)의 내측벽에 가스확산공간(D)을 형성하는 요홈부(337)이며,상기 가스주입부(330)는, 상기 가스확산공간(D)에 위치되며,상기 가스주입부(330)는, 외부에 설치된 가스공급부로부터 가스를 공급받아 공급받은 가스를 상기 내부공간 및 상기 요홈부(337)를 향해 분사하는 노즐부(332)를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락챔버(30).