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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0180136 (2016-12-27) | |
공개번호 | 10-2018-0076053 (2018-07-05) | |
등록번호 | 10-2675775-0000 (2024-06-12) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160180136 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-12-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
i)이차원 탄소나노구조체의 유도체, 영차원 탄소나노구조체의 유도체 및 용매를 포함하거나 또는 ii) 이차원 탄소나노구조체와 영차원 탄소나노구조체를 함유하는 복합체; 및 용매를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 미세패턴의 형성방법을 개시한다.
i)이차원 탄소나노구조체의 유도체, 영차원 탄소나노구조체의 유도체 및 용매를 포함하거나 또는 ii) 이차원 탄소나노구조체와 영차원 탄소나노구조체를 함유하는 복합체; 및 용매를 포함하며,상기 이차원 탄소나노구조체가 그래핀 나노파티클이고, 상기 그래핀 나노파티클의 라만 분광 분석에 의하여 구해지는 G 모드 피크에 대한 D 모드 피크의 세기비가 2 이하이고, G 모드 피크에 대한 2D 모드 피크의 세기비가 0.01 이상이며, 상기 이차원 탄소나노구조체와 영차원 탄소나노구조체의 혼합 중량비는 1:1 내지 99:1인, 하드마스크 조성물.
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