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세라믹 구조체, 그 제법 및 반도체 제조 장치용 부재 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/48
  • H01L-021/324
출원번호 10-2017-0019475 (2017-02-13)
공개번호 10-2017-0101782 (2017-09-06)
등록번호 10-2657287-0000 (2024-04-09)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2016-037658 (2016-02-29)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170019475
발명자 / 주소
  • 아츠지 교헤이 / 일본 아이치켄 나고야시 미즈호쿠 스다쵸 *-** 엔지케이 인슐레이터 엘티디 나이
  • 니시무라 노보루 / 일본 아이치켄 나고야시 미즈호쿠 스다쵸 *-** 엔지케이 인슐레이터 엘티디 나이
  • 가츠다 유지 / 일본 아이치켄 나고야시 미즈호쿠 스다쵸 *-** 엔지케이 인슐레이터 엘티디 나이
출원인 / 주소
  • 엔지케이 인슐레이터 엘티디 / 일본 아이치켄 나고야시 미즈호쿠 스다쵸 *-** (***-****)
대리인 / 주소
  • 김태홍; 김진회
심사청구여부 있음 (2021-09-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

세라믹 구조체(10)는, 원반형의 AlN 세라믹 기체(12)의 내부에 히터 전극(14)을 내장한 것이다. 히터 전극(14)은, 주성분인 WC에, AlN보다 저항률이 낮고 열팽창계수가 높은 금속 필러(예컨대 Ru나 RuAl)를 함유시킨 것이다. AlN 세라믹 기체(12)와 히터 전극(14)의 40∼1000℃에서의 열팽창계수의 차의 절대치 ｜ΔCTE｜는 0.35 ppm/℃ 이하이다.

대표청구항

AlN이 50 체적% 이상인 AlN 세라믹 기체의 표면 또는 내부에 히터 전극을 구비한 세라믹 구조체로서, 상기 히터 전극은, 50 체적% 이상의 WC에, AlN보다 저항률이 낮고 열팽창계수가 높은 금속 필러를 함유시킨 것이고, 상기 금속은 Ru 또는 Ru 합금이며,상기 AlN 세라믹 기체와 상기 히터 전극의 40∼1000℃에서의 열팽창계수의 차의 절대치는 0.35 ppm/℃ 이하인 것인 세라믹 구조체.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 세라믹스 부재, 반도체 제조 장치용 부재 및 세라믹스 부재의 제조 방법 | 와타나베, 모리미치, 진도 아스미, 가츠다 유지, 사토 요스케, 이소다 요시노리, 와타나베 아츠시
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  2. [일본] CERAMIC MEMBER AND MEMBER FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS | WATANABE ATSUSHI, NISHIMURA NOBORU
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