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연합인증

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유기발광소자 제조용 도전 부재 세정용 조성물 및 이를 이용한 세정방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C11D-011/00
  • C11D-001/66
  • C11D-003/00
  • C11D-003/04
  • H01L-021/02
  • H01L-051/00
출원번호 10-2017-0069714 (2017-06-05)
공개번호 10-2018-0133139 (2018-12-13)
등록번호 10-1971459-0000 (2019-04-17)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170069714
발명자 / 주소
  • 윤정수 / 경기도 화성시 동탄대로**길 **, ****동 ****호
  • 김현탁 / 경기도 화성시 동탄반석로 ***, ***동 ****호
  • 이진규 / 경기도 성남시 분당구 판교원로 ***, ***동 ****호
  • 심재원 / 서울특별시 강남구 선릉로 ***, ***동 ****호
  • 김세훈 / 충청남도 천안시 서북구 늘푸른*길 **, ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 재원산업 주식회사 / 전라남도 여수시 낙포단지길 ** (낙포동)
  • (주)이엠테크 / 충청남도 서산시 대산읍 독곶*로 **-** ()
대리인 / 주소
  • 김정은
심사청구여부 있음 (2017-06-05)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 유기발광소자 제조용 도전 부재 세정용 조성물 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르는 유기발광소자 제조용 도전 부재 세정용 조성물은 유기산 또는 무기산을 포함하지 않아 금속 마스크를 부식시키지 않으면서 세정 성능이 향상되는 특징이 있다.

대표청구항

조성물 총중량에 대하여, 과산화수소 1 내지 15중량%, 질산암모늄 5 내지 10중량%, 초산암모늄 1 내지 5중량%, 계면활성제 0.05 내지 1중량%, 및 잔량의 물로 이루어지며, 유기산을 포함하지 않는, 유기발광소자 제조용 금속 마스크 세정용 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 반도체 기판용 세정액 조성물, 이를 이용한 세정 방법 및도전성 구조물의 제조 방법 | 이광욱, 황인석, 고용선, 윤병문, 김경현, 김기섭, 송선영, 이혁진, 김병묵
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  2. [한국] 세정제 조성물 | 유진호, 허준, 정현철, 이상대
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