초록

본 발명은 세정액을 수용하는 세정조; 상기 세정조 내부에서 웨이퍼를 지지하는 지지부; 및 세정액이 유동하는 유동관과, 상기 유동관의 길이 방향을 따라 배치되는 다수개의 분사공과, 상기 분사공과 연통되도록 상기 유동관으로부터 돌출되어 상기 분사공의 외측을 이루는 적어도 하나의 분사노즐을 가지며, 상기 세정조 내부에서 상기 웨이퍼를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사부를 포함하는 웨이퍼 세정 장치를 제공한다.

대표청구항 ▼

세정액을 수용하는 세정조;다수의 봉 형상 부재가 길이 방향으로 나란하게 배치되며, 상기 세정조 내부에서 수직으로 세워진 다수개의 웨이퍼를 지지하는 지지부; 및상기 세정조 내부에 장착되며, 상기 지지부의 아래에서 상기 다수개의 웨이퍼를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사부를 포함하며,상기 세정액 분사부는,상기 지지부의 외측을 감싸는 형태로 상기 지지부의 아래에 인접 배치되며, 세정액이 유동하는 유동관;상기 웨이퍼를 향하는 상기 유동관의 내측 길이 방향을 따라 배치되는 다수개의 분사공; 및상기 분사공의 외측을 이루도록 상기 유동관으로부

세정액을 수용하는 세정조;다수의 봉 형상 부재가 길이 방향으로 나란하게 배치되며, 상기 세정조 내부에서 수직으로 세워진 다수개의 웨이퍼를 지지하는 지지부; 및상기 세정조 내부에 장착되며, 상기 지지부의 아래에서 상기 다수개의 웨이퍼를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사부를 포함하며,상기 세정액 분사부는,상기 지지부의 외측을 감싸는 형태로 상기 지지부의 아래에 인접 배치되며, 세정액이 유동하는 유동관;상기 웨이퍼를 향하는 상기 유동관의 내측 길이 방향을 따라 배치되는 다수개의 분사공; 및상기 분사공의 외측을 이루도록 상기 유동관으로부터 돌출되고, 상기 분사공과 연통되는 내벽에는 나사산이 형성되며 웨이퍼를 향해 세정액을 분사하는 분사노즐; 을 포함하며,상기 분사노즐은 상기 유동관에서 외측으로 갈수록 상기 분사공의 직경이 점점 작아지도록 테이퍼진 형상을 갖는 웨이퍼 세정 장치.