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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0149879 (2017-11-10) | |
공개번호 | 10-2019-0053714 (2019-05-20) | |
등록번호 | 10-2176064-0000 (2020-11-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170149879 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-11-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
대면적 기판의 대응에 적합하며 또한 제조가 용이한 정전척과 그 제조방법이 소개된다. 그 정전척 베이스(1) 상에 제1 유전층(10')과 제2 유전층(20')이 형성되고, 이 유전층들(10',20') 사이에 전극 패턴(40)이 마련된 구조를 갖는다. 유전층들(10',20')은 액상 수지의 경화층이다. 기판을 지지하는 제2 유전층(20') 상에는 절연성 필름이나 폼재 시트(50)가 부착될 수 있다.
a) 베이스의 상부면 가장자리를 따라 제1 댐을 설치하는 단계, 제1 댐에 의해 둘러싸인 베이스의 상부는 제1 영역으로 규정됨;b) 제1 영역에 제1 액상 수지가 흘러 들어가 도포되도록 베이스 상에 제1 액상 수지를 주입하고 이를 경화시키는 단계;c) 경화된 제1 액상 수지의 상부면을 평탄 가공하여 제1 유전층을 마련하는 단계;d) 제1 유전층 상에 전극 패턴을 형성하는 단계;e) 제1 유전층의 가장자리를 따라 제2 댐을 설치하는 단계, 제2 댐에 의해 둘러싸인 제1 유전층 상부는 제2 영역으로 규정됨;f) 제2 영역에 제2 액상
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