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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-7003161 (2017-02-03) | |
공개번호 | 10-2017-0020533 (2017-02-22) | |
등록번호 | 10-1969300-0000 (2019-04-10) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020140086175 (2014-07-09) | |
국제출원번호 | PCT/KR2015/007117 (2015-07-09) | |
국제공개번호 | WO 2016/006943 (2016-01-14) | |
번역문제출일자 | 2017-02-03 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020177003161 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-02-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 금속 나노와이어를 제공하는 단계; 및 플라즈마 화학기상증착법에 의하여 상기 금속 나노와이어를 그래핀으로 코팅하는 단계를 포함하는, 금속 나노와이어 코어 및 그래핀 쉘을 포함하는 코어-쉘 구조의 나노와이어를 제조하는 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 금속 나노와이어 코어 및 그래핀 쉘을 포함하는, 코어-쉘 구조를 가지는 나노와이어 및 이러한 나노와이어로 형성된 투명 전극에 관한 것이다.상기 코어-쉘 구조를 가지는 나노와이어로부터 형성된 투명 전극은 구리의 산화특성이 제어될 수 있고, 광학적, 전기적 및 기계적으로 우수
금속 나노와이어 코어 및 그래핀 쉘을 포함하는, 코어-쉘 구조의 나노와이어를 제조하는 방법으로서, 금속 나노와이어를 제공하는 단계; 상기 금속 나노와이어 표면의 산화물을 제거하기 위해 H2 가스를 주입하는 단계;상기 H2 가스를 제거하기 위해 Ar 가스를 주입하는 단계; 및Ar 및 CH4의 혼합 플라즈마 발생 가스를 주입하여 플라즈마 화학기상증착법에 의하여 상기 금속 나노와이어를 그래핀으로 코팅하는 단계를 포함하고,상기 금속 나노와이어는 20nm 내지 150nm의 균일한 직경을 가지는 방법.
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