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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-7012477 (2017-05-08) | |
공개번호 | 10-2017-0066603 (2017-06-14) | |
등록번호 | 10-1953044-0000 (2019-02-21) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2014-208668 (2014-10-10) | |
국제출원번호 | PCT/JP2015/072827 (2015-08-12) | |
국제공개번호 | WO 2016/056300 (2016-04-14) | |
번역문제출일자 | 2017-05-08 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020177012477 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-07-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
박막 형성시에 대상 기판 등의 목적물에 대하여, 효율적으로 정밀 가공할 수 있고, 또 당해 대상 기판 등의 목적물 이외에 퇴적 혹은 부착된 규소계 화합물을 플라즈마리스 에칭에 의해 효율적으로 제거할 수 있는 에칭 가스 조성물 및 에칭 방법을 제공한다. (1) XF (X 는 Cl, Br 또는 I) 로 나타내는 불화할로겐 화합물을 주성분으로서 함유하고, 또한 (2) F2 와, (3) XFn (X 는 Cl, Br 또는 I, n 은 3 이상의 정수) 으로 나타내는 불화할로겐 화합물과, (4) HF 와, (5) O2 와, (6) Cl2, B
(1) XF (X 는 Cl, Br 또는 I) 로 나타내는 불화할로겐 화합물을 주성분으로서 함유하고, 또한 (2) F2 와, (3) XFn (X 는 Cl, Br 또는 I, n 은 3 이상의 정수) 으로 나타내는 불화할로겐 화합물과, (4) HF 와, (5) O2 와, (6) Cl2, Br2, 및 I2 에서 선택되는 1 종 이상의 할로겐 가스 단체를 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 화합물용 에칭 가스 조성물.
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