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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0005431 (2018-01-16) |
공개번호 | 10-2019-0087080 (2019-07-24) |
등록번호 | 10-2034570-0000 (2019-10-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180005431 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-01-16) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
음각 패턴을 갖는 마스크를 이용하여 베이스 위에 도전재료를 용사코팅함에 의해 전극 패턴이 형성된다. 마스크는 베이스 상에 인쇄되며, 전극 패턴 형성 후 제거된다. 마스크는 알칼리 용액을 가압 분쇄하는 방식으로 적정한 물리력을 이용하여 습식 제거된다.
절연 재료로 만들어지거나 또는 절연 코팅이 된 베이스 상에 음각 패턴을 갖는 마스크를 인쇄하는 단계;마스크가 인쇄된 베이스 상에 도전재료를 용사 코팅하여 음각 패턴에 대응하는 전극 패턴을 형성하는 단계, 도전재료는 음각 패턴을 통해 베이스에 인쇄됨;마스크를 제거하는 단계; 및마스크가 제거된 부위 및 전극 패턴을 포함하여 베이스 상에 절연재료를 용사 코팅하는 단계를 포함하며,상기 마스크의 재료는,염화비닐과 비닐 아세테이트의 공중합체 수지 45~55wt%, 디아이소노닐 프탈레이트 20~30wt%, 수소 처리된 경질 정제유 10wt% 이
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