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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0043689 (2018-04-16) | |
공개번호 | 10-2018-0116758 (2018-10-25) | |
등록번호 | 10-1981890-0000 (2019-05-17) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2017-081235 (2017-04-17) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180043689 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-08-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 과제는 60㎚ 이하의 막 두께에서 EUV광의 반사율을 2% 이하로 억제하여, 마스크 가공이 용이한 반사형 마스크 블랭크를 제공하는 것이다.본 발명은, 기판(11) 위에 EUV광을 반사하는 다층 반사막(12)과, 마스크 가공 시에 부분적으로 에칭되는 패턴막(16)을, 기판측으로부터 이 순서로 구비하는 바이너리형의 반사형 마스크 블랭크(10)이며, 상기 패턴막(16)은 EUV광을 흡수하는 흡수체막(14)과, 표면 반사 증강막(15)을, 기판측으로부터 이 순서로 구비하고 있고, 파장 13.53㎚에 있어서의, 상기 흡수체막(14
기판 위에 EUV광을 반사하는 다층 반사막과, 마스크 가공 시에 부분적으로 에칭되는 패턴막을, 기판측으로부터 이 순서로 구비하는 바이너리형의 반사형 마스크 블랭크이며,상기 패턴막은, EUV광을 흡수하는 흡수체막과, 표면 반사 증강막을, 기판측으로부터 이 순서로 구비하고 있고,파장 13.53㎚에 있어서의, 상기 흡수체막의 굴절률을 nABS, 흡수 계수를 kABS라고 하고, 상기 표면 반사 증강막의 굴절률을 n, 흡수 계수를 k라고 했을 때, ((n-1)2+k2)1/2>((nABS-1)2+kABS2)1/2+0.03으로 나타나는 조
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