초록 ▼

트랩장치 및 이를 구비하는 반도체 제조설비가 개시된다. 트랩장치는 외부로부터 분리되는 내부공간을 구비하고 제1 및 제2 유동라인을 상기 내부공간에 각각 연결하는 입구 및 출구를 구비하는 하우징, 하우징의 내측면에 고정되어 바닥부로 경사지게 연장하고 제1 유동라인으로부터 전송된 반도체 제조공정의 배출물질로부터 고상 부산물을 포획하여 하부에 파우더를 형성하는 포획기 및 하우징의 상단부에 배치되어 플라즈마 공정에 의해 파우더를 기체 상태로 분해하여 기상 부산물을 생성하는 플라즈마 생성기를 포함한다. 고상 불순물을 기화시켜 기상 불순물로

트랩장치 및 이를 구비하는 반도체 제조설비가 개시된다. 트랩장치는 외부로부터 분리되는 내부공간을 구비하고 제1 및 제2 유동라인을 상기 내부공간에 각각 연결하는 입구 및 출구를 구비하는 하우징, 하우징의 내측면에 고정되어 바닥부로 경사지게 연장하고 제1 유동라인으로부터 전송된 반도체 제조공정의 배출물질로부터 고상 부산물을 포획하여 하부에 파우더를 형성하는 포획기 및 하우징의 상단부에 배치되어 플라즈마 공정에 의해 파우더를 기체 상태로 분해하여 기상 부산물을 생성하는 플라즈마 생성기를 포함한다. 고상 불순물을 기화시켜 기상 불순물로 상변환 한 후 제2 유동라인으로 공급함으로써 배출라인 막힘 및 펌프성능 저하를 방지할 수 있다.

대표청구항 ▼

외부로부터 분리되는 내부공간을 구비하고 제1 및 제2 유동라인을 상기 내부공간에 각각 연결하는 입구 및 출구를 구비하는 하우징;상기 하우징의 내측면에 고정되어 바닥부로 경사지게 연장하고 상기 제1 유동라인으로부터 전송된 반도체 제조공정의 배출물질로부터 고체상태의 공정 부산물인 고상 부산물을 포획하여 하부에 파우더를 형성하는 포획기; 및상기 하우징의 상단부에 배치되어 플라즈마 공정에 의해 상기 파우더를 기체 상태로 분해하여 기체 상태의 공정 부산물인 기상 부산물을 생성하는 플라즈마 생성기를 포함하고,상기 포획기는,상기 내측면으로부터

외부로부터 분리되는 내부공간을 구비하고 제1 및 제2 유동라인을 상기 내부공간에 각각 연결하는 입구 및 출구를 구비하는 하우징;상기 하우징의 내측면에 고정되어 바닥부로 경사지게 연장하고 상기 제1 유동라인으로부터 전송된 반도체 제조공정의 배출물질로부터 고체상태의 공정 부산물인 고상 부산물을 포획하여 하부에 파우더를 형성하는 포획기; 및상기 하우징의 상단부에 배치되어 플라즈마 공정에 의해 상기 파우더를 기체 상태로 분해하여 기체 상태의 공정 부산물인 기상 부산물을 생성하는 플라즈마 생성기를 포함하고,상기 포획기는,상기 내측면으로부터 하방으로 경사지게 연장하여 깔때기 형상을 갖고 상기 하우징의 내측면과 접촉하는 상단부 및 아래로 오목한 포집공간을 한정하고 상기 파우더가 퇴적하는 하단부를 구비하는 포획 몸체;상기 포획 몸체의 상부 외측면을 둘러싸고 상대적으로 높은 온도로 유지되는 발열판(heat panel); 및상기 포획 몸체의 하부 외측면을 둘러싸고 상대적으로 낮은 온도로 유지되는 냉각판(cooling panel)를 포함하는 반도체 제조용 트랩장치.