[특허]임프린팅용 조성물 및 이를 이용한 광학 기재의 제조 방법

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임프린팅용 조성물 및 이를 이용한 광학 기재의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	G03F-007/027 C08F-002/50 C08F-022/10 C09D-011/30 G03F-007/00 G03F-007/16
출원번호	10-2018-0139937 (2018-11-14)
공개번호	10-2020-0056065 (2020-05-22)
등록번호	10-2560728-0000 (2023-07-24)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020180139937
발명자 / 주소	김아름 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학기술연구원 김준형 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학기술연구원 백승아 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학기술연구원 추소영 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학기술연구원
출원인 / 주소	주식회사 엘지화학 / 서울특별시 영등포구 여의대로 *** (여의도동)
대리인 / 주소	특허법인 피씨알
심사청구여부	있음 (2021-07-30)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 잉크젯 프린팅을 통해 광학 기재를 형성할 수 있는 임프린팅용 조성물 및 이를 이용한 광학 기재의 제조방법에 관한 것이다.

대표청구항

(메트)아크릴레이트기를 2 이상 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광반응성 단량체;광개시제;계면활성제;끓는점이 250 ℃ 이상인 용매를 1종 이상 포함하는 고비점 용매; 및589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.7 이상인 무기 입자;를 포함하며상기 고비점 용매는 부틸 카비톨 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 디부틸 에테르 또는 테트라에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 중 선택된 하나 이상인 것인, 임프린팅용 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 광 나노임프린트 리소그래피용 경화성 조성물 및 그것을 사용한 패턴 형성 방법 | 타카야나기 타카시, 카와베 야스마사
상세보기
[한국] 광 임프린트용의 막 형성 조성물 및 광학 부재의 제조 방법 | 다케우치 히로아키, 사카모토 요시노리
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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