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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0084279 (2019-07-12) | |
공개번호 | 10-2021-0007574 (2021-01-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190084279 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 반도체용 고선택비 식각액에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 무기산; 실란 계열 조절제; 및 과산화물(Peroxide) 보조제;를 포함하는, 반도체용 고선택비 식각액에 관한 것이다.
무기산;실란 계열 조절제; 및과산화물(Peroxide) 보조제;를 포함하는,반도체용 고선택비 식각액.
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