타키, 아키라
/ 일본 가나가와껭 ******* 찌가사끼-시 하기소노 ****반찌 가부시키가이샤 아루박 내
이시바시, 테츠
/ 일본 가나가와껭 ******* 찌가사끼-시 하기소노 ****반찌 가부시키가이샤 아루박 내
출원인 / 주소
가부시키가이샤 아루박 / 일본 가나가와껭 찌가사끼시 하기소노 ****반찌
대리인 / 주소
특허법인 무한
심사청구여부
있음 (2019-06-05)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
등록
초록▼
본 발명의 스퍼터링 방법은, 반응성 스퍼터 장치를 이용하는 스퍼터링 방법에 있어서, 상기 반응성 스퍼터 장치는, 성막 대상물에 형성해야 할 화합물막의 형성 영역을 향해 스퍼터 입자를 방출하는 캐소드 장치를 갖추고, 상기 형성 영역과 대향하는 공간이 대향 영역이고, 상기 캐소드 장치가, 이로전 영역을 상기 대향 영역에 주사하는 주사부와, 상기 이로전 영역이 형성되고, 주사 방향에서의 길이가 상기 대향 영역 보다 짧은 타겟을 갖추고, 상기 주사부가, 상기 주사 방향에서의 상기 형성 영역의 2개의 단부 중, 상기 스퍼터 입자가 먼저 도달
본 발명의 스퍼터링 방법은, 반응성 스퍼터 장치를 이용하는 스퍼터링 방법에 있어서, 상기 반응성 스퍼터 장치는, 성막 대상물에 형성해야 할 화합물막의 형성 영역을 향해 스퍼터 입자를 방출하는 캐소드 장치를 갖추고, 상기 형성 영역과 대향하는 공간이 대향 영역이고, 상기 캐소드 장치가, 이로전 영역을 상기 대향 영역에 주사하는 주사부와, 상기 이로전 영역이 형성되고, 주사 방향에서의 길이가 상기 대향 영역 보다 짧은 타겟을 갖추고, 상기 주사부가, 상기 주사 방향에서의 상기 형성 영역의 2개의 단부 중, 상기 스퍼터 입자가 먼저 도달하는 제1 단부에 대해, 상기 주사 방향에서의 상기 타겟의 표면의 중점이 상기 주사 방향에서 상기 형성 영역의 외측인 개시 위치로부터, 상기 주사 방향에서의 상기 형성 영역의 2개의 단부 중, 타방의 제2 단부에 대해, 상기 주사 방향에서의 상기 타겟의 상기 표면의 중점이 상기 주사 방향에서 상기 형성 영역의 외측인 종료 위치까지, 상기 대향 영역을 향해 상기 이로전 영역을 주사한다.상기 스퍼터링 방법은, 상기 주사부에서의 상기 타겟의 속도를, 상기 개시 위치로부터 제1 주사 속도까지 가속한 후, 제2 주사 속도까지 더 가속하고, 그 후, 제1 주사 속도까지 감속한 후, 상기 종료 위치까지 주사함과 동시에, 상기 제1 주사 속도로부터 가속해서 상기 제2 주사 속도가 되는 위치가, 상기 제1 단부 보다 상기 형성 영역의 내측이 되고, 상기 제2 주사 속도로부터 감속되어 상기 제1 주사 속도가 되는 위치가, 상기 제2 단부 보다 상기 형성 영역의 내측이 된다.
대표청구항▼
반응성 스퍼터 장치를 이용하는 스퍼터링 방법에 있어서,상기 반응성 스퍼터 장치는,스퍼터 챔버와,타겟과, 상기 타겟을 주사 방향에 따라 이동시키는 주사부를 가지고, 성막 대상물에 형성해야 할 화합물막의 형성 영역을 향해 스퍼터 입자를 방출하고, 상기 스퍼터 챔버 내에 위치하는 캐소드 장치를 갖추고,상기 스퍼터 챔버는, 상기 주사 방향에 있어서 상기 형성 영역과 대향하는 공간인 대향 영역을 가지고,상기 주사부는, 상기 타겟에 형성되는 이로전 영역을 상기 대향 영역에 주사하고,상기 주사 방향에 있어서, 상기 타겟의 길이는, 상기 대향 영
반응성 스퍼터 장치를 이용하는 스퍼터링 방법에 있어서,상기 반응성 스퍼터 장치는,스퍼터 챔버와,타겟과, 상기 타겟을 주사 방향에 따라 이동시키는 주사부를 가지고, 성막 대상물에 형성해야 할 화합물막의 형성 영역을 향해 스퍼터 입자를 방출하고, 상기 스퍼터 챔버 내에 위치하는 캐소드 장치를 갖추고,상기 스퍼터 챔버는, 상기 주사 방향에 있어서 상기 형성 영역과 대향하는 공간인 대향 영역을 가지고,상기 주사부는, 상기 타겟에 형성되는 이로전 영역을 상기 대향 영역에 주사하고,상기 주사 방향에 있어서, 상기 타겟의 길이는, 상기 대향 영역의 길이 보다 짧고,상기 주사부가,상기 주사 방향에서의 상기 형성 영역의 2개의 단부 중, 상기 스퍼터 입자가 먼저 도달하는 제1 단부에 대해, 상기 주사 방향에서의 상기 타겟의 표면의 중점이 상기 주사 방향에서 상기 형성 영역의 외측인 개시 위치로부터,상기 주사 방향에서의 상기 형성 영역의 2개의 단부 중, 타방의 제2 단부에 대해, 상기 주사 방향에서의 상기 타겟의 상기 표면의 중점이 상기 주사 방향에서 상기 형성 영역의 외측인 종료 위치까지, 상기 대향 영역을 향해 상기 이로전 영역을 주사하고,상기 스퍼터링 방법은,상기 주사부에서의 상기 타겟의 속도를, 상기 개시 위치로부터 제1 주사 속도까지 가속한 후, 제2 주사 속도까지 더 가속하고, 그 후, 제1 주사 속도까지 감속한 후, 상기 종료 위치까지 주사함과 동시에,상기 제1 주사 속도로부터 가속해서 상기 제2 주사 속도가 되는 위치가, 상기 제1 단부 보다 상기 형성 영역의 내측이 되고,상기 제2 주사 속도로부터 감속되어 상기 제1 주사 속도가 되는 위치가, 상기 제2 단부 보다 상기 형성 영역의 내측이 되는스퍼터링 방법.
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