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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-7019319 (2019-07-03) | |
공개번호 | 10-2019-0100224 (2019-08-28) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2016-256228 (2016-12-28) | |
국제출원번호 | PCT/JP2017/046192 (2017-12-22) | |
국제공개번호 | WO 2018/123889 (2018-07-05) | |
번역문제출일자 | 2019-07-03 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020197019319 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
일 양태에 있어서, 세리아에 대한 세정성이 우수하고, 세리아의 용해성의 경시 변화를 억제할 수 있는 반도체 디바이스용 기판용의 세정제 조성물의 제공.본 개시는, 일 양태에 있어서, 하기 성분 A, 하기 성분 B, 하기 성분 C 및 하기 성분 D 를 함유하는, 반도체 디바이스용 기판용의 세정제 조성물에 관한 것이다. 성분 A : 황산 성분 B : 아스코르브산 성분 C : 티오우레아 및 디티오트레이톨 중 적어도 하나 성분 D : 물
하기 성분 A, 하기 성분 B, 하기 성분 C 및 하기 성분 D 를 함유하는, 반도체 디바이스용 기판용의 세정제 조성물.성분 A : 황산성분 B : 아스코르브산성분 C : 티오우레아 및 디티오트레이톨 중 적어도 하나 성분 D : 물
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