초록 ▼

수증기 분압을 안정시켜, 투명 도전막의 막질(膜質)을 보다 안정시킨다.성막 장치는, 제1 진공실과, 가스 공급원과, 성막원(成膜原)과, 제어 장치를 구비한다.상기 제1 진공실에서는, 감압(減壓) 상태가 유지되고, 기판을 보관유지(保持)하는 캐리어의 반입출(搬入出)이 가능하게 되어 있다.상기 가스 공급원은, 상기 제1 진공실에, 수증기 가스를 공급할 수 있다.상기 성막원은, 상기 제1 진공실에 배치되어, 상기 기판에 형성되는 투명 도전막의 재료를 발생시킬 수 있다.상기 제어 장치는, 상기 투명 도전막이 상기 기판에 형성될 때, 상기

수증기 분압을 안정시켜, 투명 도전막의 막질(膜質)을 보다 안정시킨다.성막 장치는, 제1 진공실과, 가스 공급원과, 성막원(成膜原)과, 제어 장치를 구비한다.상기 제1 진공실에서는, 감압(減壓) 상태가 유지되고, 기판을 보관유지(保持)하는 캐리어의 반입출(搬入出)이 가능하게 되어 있다.상기 가스 공급원은, 상기 제1 진공실에, 수증기 가스를 공급할 수 있다.상기 성막원은, 상기 제1 진공실에 배치되어, 상기 기판에 형성되는 투명 도전막의 재료를 발생시킬 수 있다.상기 제어 장치는, 상기 투명 도전막이 상기 기판에 형성될 때, 상기 제1 진공실의 수증기 분압을 제1 분압 이상이고 상기 제1 분압 보다 높은 제2 분압 이하인 범위로 제어한다.

대표청구항 ▼

감압 상태가 유지되고, 기판을 보관유지하는 캐리어의 반입출이 가능한 제1 진공실과,상기 제1 진공실에, 수증기 가스를 공급하는 것이 가능한 가스 공급원과,상기 제1 진공실에 배치되어, 상기 기판에 형성되는 투명 도전막의 재료를 발생시키는 것이 가능한 성막원과,상기 투명 도전막이 상기 기판에 형성될 때, 상기 제1 진공실의 수증기 분압을 제1 분압 이상이고 상기 제1 분압 보다 높은 제2 분압 이하인 범위로 제어하고, 상기 제1 진공실의 상기 수증기 분압이 상기 제2 분압 보다 낮고 상기 제1 분압 보다 높은 제3 분압 이하가 된 경

감압 상태가 유지되고, 기판을 보관유지하는 캐리어의 반입출이 가능한 제1 진공실과,상기 제1 진공실에, 수증기 가스를 공급하는 것이 가능한 가스 공급원과,상기 제1 진공실에 배치되어, 상기 기판에 형성되는 투명 도전막의 재료를 발생시키는 것이 가능한 성막원과,상기 투명 도전막이 상기 기판에 형성될 때, 상기 제1 진공실의 수증기 분압을 제1 분압 이상이고 상기 제1 분압 보다 높은 제2 분압 이하인 범위로 제어하고, 상기 제1 진공실의 상기 수증기 분압이 상기 제2 분압 보다 낮고 상기 제1 분압 보다 높은 제3 분압 이하가 된 경우, 상기 제1 진공실에 상기 가스 공급원에 의해 상기 수증기 가스를 제1 유량으로 공급하고, 상기 제1 진공실의 상기 수증기 분압이 상기 제3 분압 보다 낮고 상기 제1 분압 보다 높은 제4 분압 이하가 된 경우, 상기 제1 진공실에 상기 가스 공급원에 의해 상기 수증기 가스를 상기 제1 유량 보다 큰 제2 유량으로 공급하고, 상기 제1 진공실의 상기 수증기 분압이 상기 제3 분압 보다 커진 경우, 상기 제1 진공실에 상기 가스 공급원에 의해 상기 수증기 가스를 상기 제1 유량 보다 작은 제3 유량으로 공급하는 제어를 실시하는 제어 장치를 구비하는 성막 장치.