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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0091541 (2020-07-23) | |
공개번호 | 10-2022-0012590 (2022-02-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200091541 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명의 실시예에 따른 정전척 제조 방법은, 하부 유전층을 형성하는 단계, 하부 유전층 위에 상부 유전층을 형성하는 단계를 포함하고, 하부 유전층은 소결 또는 대기 플라즈마 용사에 의해 형성되고, 상부 유전층은 물리기상증착 또는 에어로졸 증착에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 실시예에 따른 정전척 재생 방법은, 정전 전극을 포함하는 정전척을 재생하는 방법으로서, 정전척의 상부 표면 일부를 제거하는 단계, 제거된 상부 표면 위에 물리기상증착 또는 에어로졸 증착으로 유전층을 코팅하는 단계 및 코팅된 유전층에 엠보
하부 유전층을 형성하는 단계;상기 하부 유전층 위에 상부 유전층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 하부 유전층은 소결 또는 대기 플라즈마 용사에 의해 형성되고,상기 상부 유전층은 물리기상증착 또는 에어로졸 증착에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 정전척 제조 방법.
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