초록 ▼

본 발명은 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법에 관한 것으로서, 노멀 두께 웨이퍼를 두께 감소(∇100㎛-200㎛) 처리되는 단계(S100); 두께 감소된 웨이퍼로 캐리어 층의 전면에 유전체 층(3)이 성막되는 단계(S200); 캐리어 층의 앞면과 후면에 포토 레지스트 패턴층이 형성되는 단계(S300); 포토 레지스트 패턴층이 각각 형성된 캐리어 층의 앞면과 후면에 도전막이 증착·성막되는 단계(S400); 시드층으로 도전막이 각각 형성된 캐리어 층의 앞면과 후면에 전해도금으로 금속도금막이 형성되는 단계(S500); 캐리어 층의 후면에 금

본 발명은 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법에 관한 것으로서, 노멀 두께 웨이퍼를 두께 감소(∇100㎛-200㎛) 처리되는 단계(S100); 두께 감소된 웨이퍼로 캐리어 층의 전면에 유전체 층(3)이 성막되는 단계(S200); 캐리어 층의 앞면과 후면에 포토 레지스트 패턴층이 형성되는 단계(S300); 포토 레지스트 패턴층이 각각 형성된 캐리어 층의 앞면과 후면에 도전막이 증착·성막되는 단계(S400); 시드층으로 도전막이 각각 형성된 캐리어 층의 앞면과 후면에 전해도금으로 금속도금막이 형성되는 단계(S500); 캐리어 층의 후면에 금속도금막을 덮는 유전체 층(33)을 포토 에칭 공정으로 후면 접점이 형성되는 단계(S600); 를 포함하는 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법으로서, 단계(S400)는 증착장치내에 캐리어 층을 회전시킬 수 있는 지그를 사용하여 전면에 도전막이 증착되고 동시에 포토 레지스트 패턴층의 상부에도 도전막이 증착되며, 단계(S500)는 도전막이 증착된 캐리어 층을 전해도금 장치의 전해액에 담겨 도전막의 표면에 접속된 도선(29a)과 대향전극에 접속된 도선(29b)을 각각 전해도금 장치의 전원에 접속하되 도선(29a)에 도선(29b)보다 소정의 전위차만큼 낮은 전위를 인가하여 도선(29a)에 전기적으로 접속된 도전막의 표면에 동이 석출되어 전해도금이 진행되어 도전막의 상면에 금속도금막이 형성되는 것을 특징으로 하는 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법.

대표청구항 ▼

노멀 두께 웨이퍼를 노멀 두께보다 두께 감소(∇100㎛-200㎛ 처리되는 단계(S100);두께 감소된 웨이퍼로 정전척 베이스인 캐리어 층의 전면에 유전체 층(3)이 성막되는 단계(S200);상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 포토 레지스트 패턴층이 형성되는 단계(S300);상기 포토 레지스트 패턴층이 각각 형성된 상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 도전막이 증착·성막되는 단계(S400);시드층으로 상기 도전막이 각각 형성된 상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 전해도금으로 금속도금막이 형성되는 단계(S500);상기 캐리어 층의 후면에 상기 금속

노멀 두께 웨이퍼를 노멀 두께보다 두께 감소(∇100㎛-200㎛ 처리되는 단계(S100);두께 감소된 웨이퍼로 정전척 베이스인 캐리어 층의 전면에 유전체 층(3)이 성막되는 단계(S200);상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 포토 레지스트 패턴층이 형성되는 단계(S300);상기 포토 레지스트 패턴층이 각각 형성된 상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 도전막이 증착·성막되는 단계(S400);시드층으로 상기 도전막이 각각 형성된 상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 전해도금으로 금속도금막이 형성되는 단계(S500);상기 캐리어 층의 후면에 상기 금속도금막을 덮는 유전체 층(33)을 포토 에칭 공정으로 후면 접점이 형성되는 단계(S600); 를 포함하는 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법으로서,상기 도전막이 증착·성막되는 단계(S400)는 증착장치내에 상기 캐리어 층을 회전시킬 수 있는 지그를 사용하여 전면에 상기 도전막이 증착되고 동시에 상기 포토 레지스트 패턴층의 상부에도 상기 도전막이 증착되며,상기 도전막의 상부에 상기 금속도금막이 전해도금으로 형성되는 단계(S500)는 상기 도전막이 증착된 상기 캐리어 층을 전해도금 장치의 전해액에 담겨 상기 도전막의 표면에 접속된 도선(29a)과 대향전극에 접속된 도선(29b)을 각각 상기 전해도금 장치의 전원에 접속하되 상기 도선(29a)에 상기 도선(29b)보다 소정의 전위차만큼 낮은 전위를 인가하여 상기 도선(29a)에 전기적으로 접속된 상기 도전막의 표면에 동이 석출되어 전해도금이 진행되어 상기 도전막의 상면에 상기 금속도금막이 형성되는 것을 특징으로 하는 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법.