초록 ▼

본 발명은 폐가스 처리용 가스 스크러버의 파우더 제거 장치에 관한 것으로, 히팅 챔버의 상부벽에 설치되어 히팅 챔버의 상부에서 하부측으로 에어를 분사하는 상부 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측벽 중간부에 설치되어 히팅 챔버의 측벽 중앙부를 통해 에어를 분사하는 측면 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측벽 하단부에 설치되어 히팅 챔버의 측벽 하부를 통해 에어를 분사하는 하부 에어노즐과, 상기 상부, 측면, 하부 에어노즐에 각각 연결설치되는 에어 공급관과, 상기 에어 공급관마다 설치되어 상기 에어 공급관을 개방 또는 차단하는 개폐 밸브와,

본 발명은 폐가스 처리용 가스 스크러버의 파우더 제거 장치에 관한 것으로, 히팅 챔버의 상부벽에 설치되어 히팅 챔버의 상부에서 하부측으로 에어를 분사하는 상부 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측벽 중간부에 설치되어 히팅 챔버의 측벽 중앙부를 통해 에어를 분사하는 측면 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측벽 하단부에 설치되어 히팅 챔버의 측벽 하부를 통해 에어를 분사하는 하부 에어노즐과, 상기 상부, 측면, 하부 에어노즐에 각각 연결설치되는 에어 공급관과, 상기 에어 공급관마다 설치되어 상기 에어 공급관을 개방 또는 차단하는 개폐 밸브와, 상기 개폐 밸브와 연결되어 이들의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 히팅 챔버의 내벽에 고착된 파우더가 잔류하지 않고 모두 제거됨으로써 반도체 제조 공정상의 생산성 향상 및 생산원가를 절감하는 효과가 있다.

대표청구항 ▼

히팅 챔버의 상부 내벽에 설치되어 상기 히팅 챔버의 내부의 상측에서 하측으로 에어를 분사하는 상부 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측부 내벽 중간부에 설치되어 상기 히팅 챔버의 측벽 중앙부를 통해 에어를 분사하는 측면 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측부 내벽 하단부에 설치되어 히팅 챔버의 측벽 하부를 통해 에어를 분사하는 하부 에어노즐과,상기 상부, 측면, 하부 에어노즐에 각각 연결되는 에어 공급관들과, 상기 에어 공급관들마다 설치되어 상기 에어 공급관을 개방 또는 차단하는 개폐 밸브와, 상기 개폐 밸브와 연결되어 이들의 동작을 제어

히팅 챔버의 상부 내벽에 설치되어 상기 히팅 챔버의 내부의 상측에서 하측으로 에어를 분사하는 상부 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측부 내벽 중간부에 설치되어 상기 히팅 챔버의 측벽 중앙부를 통해 에어를 분사하는 측면 에어노즐과, 상기 히팅 챔버의 측부 내벽 하단부에 설치되어 히팅 챔버의 측벽 하부를 통해 에어를 분사하는 하부 에어노즐과,상기 상부, 측면, 하부 에어노즐에 각각 연결되는 에어 공급관들과, 상기 에어 공급관들마다 설치되어 상기 에어 공급관을 개방 또는 차단하는 개폐 밸브와, 상기 개폐 밸브와 연결되어 이들의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 이루어지며,상기 상부 에어노즐은 상기 히팅 챔버의 상부벽에 설치되는 복수의 에어 노즐을 포함하고, 상기 복수의 에어 노즐은 상기 히팅 챔버의 히터의 내측과 외측에 각각 설치되며,상기 측면 에어노즐과 하부 에어노즐은 상기 히팅 챔버의 측부 내벽 중간부와 하부에 각각 적어도 2개의 에어노즐을 포함하며,상기 제어부는 상기 히팅 챔버의 상부 에어노즐의 개폐 밸브부터 측면 에어노즐 및 하부 에어노즐의 개폐 밸브가 순차적으로 동작하도록 설정된 것을 특징으로 하는 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치.