본 발명은 정전척에 관한 것으로서, 본 발명의 정전척은, 냉각 가스 공급을 위한 가스 유로를 갖는 베이스 기재, 상기 베이스 기재 상에 고정되고, 가공 대상 기판을 척킹 및 디척킹하기 정전척 플레이트로서, 상기 가스 유로와 소통하여 가스 분출을 위한 가스 홀을 가지는 상기 정전척 플레이트, 및 상기 베이스 기재와 상기 정전척 플레이트 사이에서 상기 가스 유로와 상기 가스 홀이 소통되도록 관통공을 갖는 절연관을 포함하고, 상기 절연관은, 상기 베이스 기재의 상면 보다 낮게 상기 베이스 기재 상에 형성된 홈 내에 장착되며, 상기 절연관
본 발명은 정전척에 관한 것으로서, 본 발명의 정전척은, 냉각 가스 공급을 위한 가스 유로를 갖는 베이스 기재, 상기 베이스 기재 상에 고정되고, 가공 대상 기판을 척킹 및 디척킹하기 정전척 플레이트로서, 상기 가스 유로와 소통하여 가스 분출을 위한 가스 홀을 가지는 상기 정전척 플레이트, 및 상기 베이스 기재와 상기 정전척 플레이트 사이에서 상기 가스 유로와 상기 가스 홀이 소통되도록 관통공을 갖는 절연관을 포함하고, 상기 절연관은, 상기 베이스 기재의 상면 보다 낮게 상기 베이스 기재 상에 형성된 홈 내에 장착되며, 상기 절연관의 상면이 상기 베이스 기재의 상면 보다 높게 형성되도록 장착되는 정전척을 제공한다.
대표청구항▼
냉각 가스 공급을 위한 가스 유로를 갖는 베이스 기재; 상기 베이스 기재 상에 고정되고, 가공 대상 기판을 척킹 및 디척킹하기 정전척 플레이트로서, 상기 가스 유로와 소통하여 가스 분출을 위한 가스 홀을 가지는 상기 정전척 플레이트; 및상기 베이스 기재와 상기 정전척 플레이트 사이에서 상기 가스 유로와 상기 가스 홀이 소통되도록 관통공을 갖는 절연관을 포함하고,상기 정전척 플레이트는, 절연층, 상기 절연층 상의 전극층, 상기 전극층 상의 유전체층을 포함하고,상기 절연관은, 상기 베이스 기재의 상면 보다 낮게 상기 베이스 기재 상에
냉각 가스 공급을 위한 가스 유로를 갖는 베이스 기재; 상기 베이스 기재 상에 고정되고, 가공 대상 기판을 척킹 및 디척킹하기 정전척 플레이트로서, 상기 가스 유로와 소통하여 가스 분출을 위한 가스 홀을 가지는 상기 정전척 플레이트; 및상기 베이스 기재와 상기 정전척 플레이트 사이에서 상기 가스 유로와 상기 가스 홀이 소통되도록 관통공을 갖는 절연관을 포함하고,상기 정전척 플레이트는, 절연층, 상기 절연층 상의 전극층, 상기 전극층 상의 유전체층을 포함하고,상기 절연관은, 상기 베이스 기재의 상면 보다 낮게 상기 베이스 기재 상에 형성된 홈 내에 장착되며, 상기 절연관의 상면이 상기 베이스 기재의 상면 보다 높게 형성되도록 장착되며,상기 절연층은, 세라믹 시트와 상기 세라믹 시트 하면의 접착층을 포함하며, 상기 접착층은 상기 절연관 상면에 형성된 정전척.
[일본]
ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME |
KITABAYASHI TETSUO,
SAITO CHIKASHI,
SHIMOJIMA HIROMASA,
NOMURA TOSHIKATSU,
ISHIDA HIRONORI
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