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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-7037384 (2020-12-24) | |
공개번호 | 10-2021-0015908 (2021-02-10) | |
등록번호 | 10-2401862-0000 (2022-05-20) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2018-119852 (2018-06-25);일본(JP) JP-P-2018-124279 (2018-06-29);일본(JP) JP-P-2018-124391 (2018-06-29) | |
국제출원번호 | PCT/JP2019/021826 (2019-05-31) | |
국제공개번호 | WO 2020/003894 (2020-01-02) | |
번역문제출일자 | 2020-12-24 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020207037384 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-12-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
반도체 웨이퍼는, 할로겐 램프에 의해 예비 가열된 후에 플래시 램프로부터의 플래시 광 조사에 의해 가열된다.플래시 램프로부터 조사되는 플래시 광의 발광 파형의 길이는 적절히 조정 가능하게 되어 있다.반도체 웨이퍼의 표면 온도를 측정하는 방사 온도계의 데이터 수집 주기(샘플링 간격)는 가변으로 하고, 플래시 광의 발광 파형의 길이가 길어질수록 데이터 수집 주기도 길게 한다.플래시 광의 발광 파형의 길이에 기인하여 반도체 웨이퍼의 표면 온도의 승강 시간이 변화해도, 당해 표면 온도가 승온하고 최고 도달 온도를 거쳐 강온할 때까지 온도
기판에 플래시 광을 조사함으로써 당해 기판을 가열하는 열처리 방법으로서, 플래시 램프로부터 기판의 표면에 플래시 광을 조사하는 플래시 광 조사 공정과, 미리 설정된 데이터 수집 주기로 방사 온도계에 의해 상기 기판의 표면 온도를 측정하는 온도 측정 공정과, 상기 온도 측정 공정에서 취득된 복수의 온도 데이터 중, 상기 플래시 광의 조사를 개시하기 전후의 일정 수의 온도 데이터를 추출하여 온도 프로파일을 작성하는 프로파일 작성 공정을 구비하고, 상기 데이터 수집 주기는 가변되는, 열처리 방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.