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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0123075 (2021-09-15) | |
공개번호 | 10-2021-0118018 (2021-09-29) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210123075 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 화학식 1로 표시되는 시클로디실라잔 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 형성용 전구체에 관한 것이다.[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 및 R2는 각각 수소원자 또는 C1-C5의 직쇄형 또는 분지형의 알킬기 또는 알킬렌기 또는 C1-C5의 치환기를 포함하거나 포함하지 않는 페닐기 또는 아민기 또는 알킬실릴기이며, R1 및 R2의 탄소원자의 총 개수는 2 이상이다.
화학식 1로 표시되는 시클로디실라잔 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 형성용 전구체.[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 및 R2는 각각 수소원자 또는 C1-C5의 직쇄형 또는 분지형의 알킬기 또는 알킬렌기 또는 C1-C5의 치환기를 포함하거나 포함하지 않는 페닐기 또는 아민기 또는 알킬실릴기이며, R1 및 R2의 탄소원자의 총 개수는 2 이상이다.
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