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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-7010784 (2021-04-12) | |
공개번호 | 10-2021-0098951 (2021-08-11) | |
등록번호 | 10-2586352-0000 (2023-10-04) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2020-011830 (2020-01-28) | |
국제출원번호 | PCT/JP2020/047930 (2020-12-22) | |
국제공개번호 | WO 2021/153104 (2021-08-05) | |
번역문제출일자 | 2021-04-12 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020217010784 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-04-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 증착원은 진공 중에서 전자빔에 의해 가열되고, 증착재료를 증발 또는 승화시켜, 이동하는 기판의 표면에 공증착에 의해 리튬을 포함하는 화합물막을 형성하기 위한 증착원으로서, 냉각부를 구비하는 하스 라이너와, 상기 하스 라이너에 수납되어 그 내부에 상기 증착재료를 넣는 복수의 라이너를 가진다.
진공 중에서 전자빔에 의해 가열되고, 증착재료를 증발 또는 승화시켜, 이동하는 기판의 표면에 공증착에 의해리튬을 포함하는 화합물막을 형성하기 위한 증착원으로서,냉각부를 구비하는 하스 라이너와,상기 하스 라이너에 수납되어 그 내부에 상기 증착재료를 넣는 복수의 라이너를 가지고,복수의 상기 라이너의 각각은 이웃하는 라이너 또는 상기 하스 라이너인 주위부재에 대향하는 벽부를 가지며,상기 라이너는, 가열 상태에서는 상기 벽부가 상기 주위부재와 접촉하고, 비가열 상태에서는 갭을 갖고 상기 주위부재로부터 이간하도록 상기 하스 라이너의 내부에
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