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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0021969 (2022-02-21) | |
공개번호 | 10-2022-0121191 (2022-08-31) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2021-027143 (2021-02-24) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220021969 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
웨이퍼의 온도를 균일하고 또한 신속하게 조정한다.웨이퍼온도조정장치(100)는, 상면(112)과, 상면(112)과 웨이퍼(W)의 간격 d를 소정 범위 내로 유지하며, 상면(112)과 웨이퍼(W)의 사이의 제1 공간(118)이 웨이퍼(W)의 상방의 제2 공간(120)과 연통한 상태에서, 상면(112)의 상방에서 웨이퍼(W)를 지지하는 웨이퍼지지기구(114)와, 상면(112)의 온도를 조정하는 스테이지(104)와, 제1 공간(118) 및 제2 공간(120)에 열전달가스를 공급하는 가스공급부(106)를 구비한다.
상면과,상기 상면과 웨이퍼의 간격을 소정 범위 내로 유지하며, 상기 상면과 상기 웨이퍼의 사이의 제1 공간이 상기 웨이퍼의 상방의 제2 공간과 연통한 상태에서, 상기 상면의 상방에서 상기 웨이퍼를 지지하는 웨이퍼지지기구와,상기 상면의 온도를 조정하는 스테이지와,상기 제1 공간 및 상기 제2 공간에 열전달가스를 공급하는 가스공급부를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼온도조정장치.
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