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연합인증

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웨이퍼온도조정장치, 웨이퍼처리장치 및 웨이퍼온도조정방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/67
  • H01L-021/683
  • H01L-021/687
출원번호 10-2022-0021969 (2022-02-21)
공개번호 10-2022-0121191 (2022-08-31)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2021-027143 (2021-02-24)
DOI http://doi.org/10.8080/1020220021969
발명자 / 주소
  • 하시구치 사다오 / 일본 ******* 에히메켄 사이죠시 이마자이케 ****반치 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤 에히메 지교오죠 내
출원인 / 주소
  • 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤 / 일본국 도쿄도 시나가와쿠 오사키 *-*-*
대리인 / 주소
  • 양영준; 김명곤
법적상태 공개

초록

웨이퍼의 온도를 균일하고 또한 신속하게 조정한다.웨이퍼온도조정장치(100)는, 상면(112)과, 상면(112)과 웨이퍼(W)의 간격 d를 소정 범위 내로 유지하며, 상면(112)과 웨이퍼(W)의 사이의 제1 공간(118)이 웨이퍼(W)의 상방의 제2 공간(120)과 연통한 상태에서, 상면(112)의 상방에서 웨이퍼(W)를 지지하는 웨이퍼지지기구(114)와, 상면(112)의 온도를 조정하는 스테이지(104)와, 제1 공간(118) 및 제2 공간(120)에 열전달가스를 공급하는 가스공급부(106)를 구비한다.

대표청구항

상면과,상기 상면과 웨이퍼의 간격을 소정 범위 내로 유지하며, 상기 상면과 상기 웨이퍼의 사이의 제1 공간이 상기 웨이퍼의 상방의 제2 공간과 연통한 상태에서, 상기 상면의 상방에서 상기 웨이퍼를 지지하는 웨이퍼지지기구와,상기 상면의 온도를 조정하는 스테이지와,상기 제1 공간 및 상기 제2 공간에 열전달가스를 공급하는 가스공급부를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼온도조정장치.

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