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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0098654 (2022-08-08) | |
공개번호 | 10-2024-0020515 (2024-02-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220098654 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-08-08) | |
법적상태 | 공개 |
이산화질소 센서가 개시된다. 상기 이산화질소 센서는 기판; 상기 기판의 제1 면에 형성되는 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴과 적어도 부분적으로 접촉하도록 상기 기판의 상기 제1 면에 형성되고 황화납-양자점 및 P-type 폴리머를 포함하는 양자점 레이어;를 포함할 수 있다. 이 외에도 명세서를 통해 파악되는 다양한 실시 예가 가능하다.
이산화질소 센서에 있어서, 기판; 상기 기판의 제1 면에 형성되는 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴과 적어도 부분적으로 접촉하도록 상기 기판의 상기 제1 면에 형성되고 황화납-양자점 및 P-type 폴리머를 포함하는 양자점 레이어;를 포함하는 이산화질소 센서.
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