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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-7007653 (2023-03-03) | |
공개번호 | 10-2023-0035713 (2023-03-14) | |
등록번호 | 10-2708400-0000 (2024-09-13) | |
우선권정보 | 미국(US) 62/240,812 (2015-10-13);미국(US) 62/297,540 (2016-02-19) | |
국제출원번호 | PCT/US2016/056637 (2016-10-12) | |
국제공개번호 | WO 2017/066319 (2017-04-20) | |
번역문제출일자 | 2023-03-03 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020237007653 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-03-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
금속 옥사이드 하이드록사이드 화학을 기초로 한 고해상도 리소그래피(lithography) 패터닝 코팅 형성을 위한 유기 금속 전구체가 기재되어 있다. 상기 전구체 조성물은 일반적으로 온화한 조건하에 수증기 또는 다른 OH 공급원 조성물에 의해 쉽게 가수분해될 수 있는 리간드를 포함한다. 상기 유기 금속 전구체는 일반적으로 비교적 낮은 방사선 선량(radiation dose)에서 고해상도 패터닝에 효과적일 수 있고 EUV 패터닝에 특히 유용한 코팅을 제공할 수 있는, 주석과의 방사선 민감성 유기 리간드를 포함한다. 상기 전구체 조성물
방사선 패턴화가능한 유기 금속 코팅의 형성 방법으로서, 상기 방법은, 유기 리간드와 가수분해성 리간드를 갖는 주석 조성물을 증착하여 건조 두께 1 나노미터(nm) 내지 50 nm의 코팅을 형성하는 것을 포함하며, 상기 유기 리간드는 방사선 감수성 Sn-C 결합을 포함하고, 상기 주석 조성물은 화학식 RSnX3 의 화합물(여기서 R은 유기 리간드, X는 가수분해성 리간드를 나타냄)을 포함하는 것인 방법.
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