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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-7039643 (2023-11-17) | |
공개번호 | 10-2023-0165920 (2023-12-05) | |
등록번호 | 10-2664561-0000 (2024-05-03) | |
우선권정보 | 미국(US) 62/746,808 (2018-10-17) | |
국제출원번호 | PCT/US2019/056183 (2019-10-15) | |
국제공개번호 | WO 2020/081483 (2020-04-23) | |
번역문제출일자 | 2023-11-17 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020237039643 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-11-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
유기금속 방사선 민감성 물질로 형성된 초기 패터닝된 구조를 처리하기 위한 헹굼 공정이 기술되며, 여기서 헹굼 공정은 패터닝된 구조를 더욱 균일하게 하기 위해 패턴 현상 후 남아있는 조성물의 일부를 제거하여 패터닝된 구조의 더 많은 부분이 사양을 충족시킬 수 있도록 할 수 있다. 방사선 민감성 물질은 알킬 주석 산화물 수산화물 조성물을 포함할 수 있다. 헹굼 공정은 극자외광을 이용한 미세 구조의 패터닝을 개선시키는 데 효과적으로 사용될 수 있다.
포지티브 톤 패턴 또는 네거티브 톤 패턴을 갖는 초기 패터닝된 구조를 헹굼 용액으로 헹구어 현상된 포토레지스트의 일부를 제거하여 패턴 치수를 제어하고 조정된 패터닝된 구조를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 초기 패터닝된 구조는 알킬주석 산화물 수산화물과 주석 잔류물을 포함하고, 상기 조정된 패터닝된 구조는 초기 패터닝된 구조를 따라 개선된 패턴 균일성과 선택된 선폭을 갖는, 조정된 패터닝된 구조를 형성하는 방법.
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