초록 ▼

알킬 리간드를 갖는 주석 이온을 기초로 한 유기 금속 방사선 레지스트 조성물이 기재되어 있다. 상기 조성물 중 일부는 분지상(branched) 알킬 리간드를 갖고 있어 고도의 용액 안정성을 유지시키면서도 개선된 패터닝 콘트라스트(patterning contrast)를 제공한다. 별개의 알킬 리간드를 갖는 화합물들의 블렌드(blend)는 패터닝의 추가 개선을 제공할 수 있다. 25nm 이하의 반피치(half-pitch)를 갖고 약 4.5nm 이하의 선폭 거칠기(line width roughness, LRW)를 갖는 고해상도 패터닝이

알킬 리간드를 갖는 주석 이온을 기초로 한 유기 금속 방사선 레지스트 조성물이 기재되어 있다. 상기 조성물 중 일부는 분지상(branched) 알킬 리간드를 갖고 있어 고도의 용액 안정성을 유지시키면서도 개선된 패터닝 콘트라스트(patterning contrast)를 제공한다. 별개의 알킬 리간드를 갖는 화합물들의 블렌드(blend)는 패터닝의 추가 개선을 제공할 수 있다. 25nm 이하의 반피치(half-pitch)를 갖고 약 4.5nm 이하의 선폭 거칠기(line width roughness, LRW)를 갖는 고해상도 패터닝이 수득될 수 있다. 금속 오염이 매우 낮은 알킬 주석 옥사이드 하이드록사이드 조성물이 형성될 수 있는 합성 기술이 개발되어 왔다.

대표청구항 ▼

표면을 갖는 기재와,상기 표면을 따라 선택된 제1 영역에 존재하고 상기 표면을 따라 다른 영역에는 존재하지 않는 제1 물질과, 상기 표면을 따라 선택되며, 상기 제1 물질이 존재하는 영역과 구별되는 제2 영역에 존재하고, 상기 표면을 따라 다른 영역에는 존재하지 않는 제2 물질을 포함하는 방사선 감수성 제품으로서,상기 제1 물질은 상기 제2 물질에 비해 Sn-C 결합의 상대 농도가 높고, 상기 제1 및 제2 물질은 서로 다른 에칭 성질을 가지며, 상기 제품은 상기 제2 물질을 선택적으로 제거하는 포지티브 톤 패터닝 또는 상기 제1

표면을 갖는 기재와,상기 표면을 따라 선택된 제1 영역에 존재하고 상기 표면을 따라 다른 영역에는 존재하지 않는 제1 물질과, 상기 표면을 따라 선택되며, 상기 제1 물질이 존재하는 영역과 구별되는 제2 영역에 존재하고, 상기 표면을 따라 다른 영역에는 존재하지 않는 제2 물질을 포함하는 방사선 감수성 제품으로서,상기 제1 물질은 상기 제2 물질에 비해 Sn-C 결합의 상대 농도가 높고, 상기 제1 및 제2 물질은 서로 다른 에칭 성질을 가지며, 상기 제품은 상기 제2 물질을 선택적으로 제거하는 포지티브 톤 패터닝 또는 상기 제1 물질을 선택적으로 제거하는 네거티브 톤 패터닝을 서로 대체하여 수행될 수 있는 것인 방사선 감수성 제품.