[특허]패터닝된 유기금속 포토레지스트 및 패터닝 방법

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	G03F-007/004 G03F-007/038 G03F-007/039 G03F-007/32 G03F-007/42 H01L-021/027
출원번호	10-2023-7039643 (2023-11-17)
공개번호	10-2023-0165920 (2023-12-05)
등록번호	10-2664561-0000 (2024-05-03)
우선권정보	미국(US) 62/746,808 (2018-10-17)
국제출원번호	PCT/US2019/056183 (2019-10-15)
국제공개번호	WO 2020/081483 (2020-04-23)
번역문제출일자	2023-11-17
DOI	http://doi.org/10.8080/1020237039643
발명자 / 주소	코크시스, 미카엘 / 미국 오레건 *** 올버니 오크 리지 스트리트 노스웨스트 데 쉐퍼, 피터 / 벨기에 베이네험 카스텔라이 그리어, 마이클 / 미국 오레건 *** 코발리스 노스웨스트 그랜트 애비뉴 창, 수-하오 / 벨기에 루벤 스파렌드리프 bus .
출원인 / 주소	인프리아 코포레이션 / 미국 오레건주 *** 코볼리스 스위트 * 노스이스트 서클 블러바드 **** 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 미나토쿠 아카사카 쵸메 반 *고
대리인 / 주소	김애라
심사청구여부	있음 (2023-11-17)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

유기금속 방사선 민감성 물질로 형성된 초기 패터닝된 구조를 처리하기 위한 헹굼 공정이 기술되며, 여기서 헹굼 공정은 패터닝된 구조를 더욱 균일하게 하기 위해 패턴 현상 후 남아있는 조성물의 일부를 제거하여 패터닝된 구조의 더 많은 부분이 사양을 충족시킬 수 있도록 할 수 있다. 방사선 민감성 물질은 알킬 주석 산화물 수산화물 조성물을 포함할 수 있다. 헹굼 공정은 극자외광을 이용한 미세 구조의 패터닝을 개선시키는 데 효과적으로 사용될 수 있다.

대표청구항

포지티브 톤 패턴 또는 네거티브 톤 패턴을 갖는 초기 패터닝된 구조를 헹굼 용액으로 헹구어 현상된 포토레지스트의 일부를 제거하여 패턴 치수를 제어하고 조정된 패터닝된 구조를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 초기 패터닝된 구조는 알킬주석 산화물 수산화물과 주석 잔류물을 포함하고, 상기 조정된 패터닝된 구조는 초기 패터닝된 구조를 따라 개선된 패턴 균일성과 선택된 선폭을 갖는, 조정된 패터닝된 구조를 형성하는 방법.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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[한국특허] 패터닝된 유기금속 포토레지스트 및 패터닝 방법
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