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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2024-0052462 (2024-04-19) | |
공개번호 | 10-2024-0064593 (2024-05-13) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020240052462 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2024-04-19) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 쌍극형 정전척 캐리어 제조방법에 관한 것으로서, 노멀 두께 웨이퍼를 두께 감소(∇100㎛-200㎛) 처리되는 단계(S100); 두께 감소된 웨이퍼로 캐리어 층의 전면에 유전체 층(3)이 성막되는 단계(S200); 캐리어 층의 앞면과 후면에 포토 레지스트 패턴층이 형성되는 단계(S300); 포토 레지스트 패턴층이 각각 형성된 캐리어 층의 앞면과 후면에 도전막이 증착·성막되는 단계(S400); 시드층으로 도전막이 각각 형성된 캐리어 층의 앞면과 후면에 전해도금으로 금속도금막이 형성되는 단계(S500); 캐리어 층의 후면에 금
노멀 두께 웨이퍼를 노멀 두께보다 두께 감소(∇100㎛-200㎛ 처리되는 단계(S100);두께 감소된 웨이퍼로 정전척 베이스인 캐리어 층의 전면에 유전체 층(3)이 성막되는 단계(S200);상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 포토 레지스트 패턴층이 형성되는 단계(S300);상기 포토 레지스트 패턴층이 각각 형성된 상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 도전막이 증착·성막되는 단계(S400);시드층으로 상기 도전막이 각각 형성된 상기 캐리어 층의 앞면과 후면에 전해도금으로 금속도금막이 형성되는 단계(S500);상기 캐리어 층의 후면에 상기 금속
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