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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1993-0026879 (1993-12-08) |
공개번호 | 20-1995-0021360 (1995-07-28) |
공고번호 | 20-0106087-0000 (1997-03-17) |
등록번호 | 20-0106087-0000 (1997-06-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019930026879 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1993-12-08) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
[청구범위] 1. 축소 렌즈(1)의 하부에 위치하는 웨이퍼 스테이지(2)에 장착된웨이퍼(3)에 레이져광(5)을 입사시켜 반사되는 두 파장 [측정광(7)과 참조광(8)]간의 위상차를 이용하여 웨이퍼의 수평도를 첵크하고, 상기 웨이퍼 스테이지에 연결된 서보 제어계(4)로 보정하는 반도체 노광장비의 웨이퍼 수평도 조절장치에 있어서, 상기 축소렌즈(1)의 하면에 웨이퍼상의 적어도 3 포인트 이상의 지점으로 레이져광(5)을 수직하게 입사시키기 위한 하프 미러(21)(21 )(21 )를 부착하고, 일부의 빛은 투과시키고 일부는 반사시켜 상기
축소 렌즈(1)의 하부에 위치하는 웨이퍼 스테이지(2)에 장착된 웨이퍼(3)에 레이져광(5)을 입사시켜 반사되는 두 파장「측정광(7)과 참조광(8)」간의 위상차를 이용하여 웨이퍼의 수평도를 첵크하고, 상기 웨이퍼 스테이지에 연결된 서보 제어계(4)로 보정하는 반도체 노광장비의 웨이퍼 수평도 조절장치에 있어서, 상기 축소 렌즈(1)의 하면에 웨이퍼상의 적어도 3 포인트 이상의 지점으로 레이져광(5)을 수직하게 입사시키기 위한 하프 미러(21)(21')(21)를 부착하고, 일부의 빛은 투과시키고 일부는 반사시켜 상기
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