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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 20-1993-0030457 (1993-12-29) |
공개번호 | 20-1995-0021399 (1995-07-28) |
공고번호 | 20-0106147-0000 (1997-02-22) |
등록번호 | 20-0106147-0000 (1997-06-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019930030457 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1993-12-29) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
[청구범위]PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)장치에 있어서, 웨이퍼를 올려 놓을 수 있는 홈(12)이 형성된 기판(2): 상기기판위에 설치되어 증착 공정 때까지 웨이퍼를 덮어 웨이퍼의 5 쪽 원소의 누출을 방지하는 InP/GaAs/GRAPHITE 커버(4): 상기 InP/GaAs/GRAPHITE커버와 연결되어 좌우로 이동할 수 있는 푸쉬 로드(push rod)(6): 상기 푸쉬 로드(6)의 일부를 감싸고 2중 오-링(O-ring)이 형성되어 상기 푸쉬 로드(6)를 이동시키면서 공
대표청구항이 없습니다.
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